[发明专利]一种倾斜角挡板形式的光阑结构

说明书

本发明公开了一种倾斜角挡板形式的光阑结构，涉及光阑技术领域，包括杜瓦上段和光阑本体，所述光阑本体置于杜瓦上段的内部，所述光阑本体的底部固定安装有焦平面，所述光阑本体的顶部开设有通光孔径，所述光阑本体包括框架座、第一倾斜角挡板、第一通过圈、第二倾斜角挡板、第二通过圈、第三倾斜角挡板和第三通过圈，所述框架座的顶端固定安装有第一倾斜角挡板。本发明通过光线照射于杜瓦上段的前端，光线通过通光孔径进入光阑内部，通过第一通过圈、第二通过圈和第三通过圈，并利用倾斜面反射进入光阑内部的杂散光，可以有效的屏蔽杂散光，减少因杂散光对制冷探测器非均匀性的影响，同时满足小F数通光孔径直径大的需要。

技术领域

本发明涉及光阑技术领域，具体涉及一种倾斜角挡板形式的光阑结构。

背景技术

制冷探测器杜瓦内部的光阑，对于减少杂散光进入焦平面起到决定作用，光阑是指在光学系统中对光束起着限制作用的实体，它可以是透镜的边缘、框架或特别设置的带孔屏，其作用可分两方面，限制光束或限制视场(成像范围)大小，光学系统中限制光束最多的光阑，称为孔径光阑，限制视场(大小)最多的光阑，称为视场光阑，由上可知，孔径光阑和视场光阑两者都是实物，决定光学系统的孔径光阑的一般规则是：从物点看光阑或光阑的像，由其中张角最小的那一个，来决定光学系统的孔径光阑，如果张角最小的是某光阑的像，则该光阑本身就是孔径光阑。

针对现有技术存在以下问题：

现有技术中的光阑对于杂散光遮挡效果不好，杂散光便会经过通光孔径进入光阑内部，经过反射照在焦平面上引起探测器成像的不均匀，对成像效果造成严重的影响，尤其是稍大的通光孔径，既要满足杂散光散反射出去，又要满足通光孔径的小F数需要，仿真后效果并不理想。

发明内容

本发明提供一种倾斜角挡板形式的光阑结构，以解决上述背景技术中提出的问题。

为解决上述技术问题，本发明所采用的技术方案是：

第一方面，一种倾斜角挡板形式的光阑结构，包括杜瓦上段和光阑本体，所述光阑本体置于杜瓦上段的内部，所述光阑本体的底部固定安装有焦平面，所述光阑本体的顶部开设有通光孔径。

所述光阑本体包括框架座、第一倾斜角挡板、第一通过圈、第二倾斜角挡板、第二通过圈、第三倾斜角挡板和第三通过圈。

所述框架座的顶端固定安装有第一倾斜角挡板，所述第一倾斜角挡板的顶端固定安装有第一通过圈，所述第一通过圈的顶端固定安装有第二倾斜角挡板，所述第二倾斜角挡板的顶端固定安装有第二通过圈，所述第二通过圈的顶端固定安装有第三倾斜角挡板，所述第三倾斜角挡板的顶端固定安装有第三通过圈。

本发明技术方案的进一步改进在于：所述焦平面和通光孔径同心，所述通光孔径置于焦平面的正上方。

采用上述技术方案，该方案中的同心设置可以便于光线照射于焦平面上。

本发明技术方案的进一步改进在于：所述第一通过圈、第二通过圈和第三通过圈的内表面直径依次减小，所述第一倾斜角挡板、第二倾斜角挡板和第三倾斜角挡板均为下方口径小上方口径大的倾斜面设计。

采用上述技术方案，该方案中的直径依次减小的通过圈配合倾斜面的设计可以有效的将杂散光进行遮挡。

本发明技术方案的进一步改进在于：所述光阑本体的外壁尺寸和杜瓦上段的内壁尺寸相互匹配，且所述光阑本体的外壁尺寸不能超过杜瓦上段的内部尺寸并留有安装间隙。

采用上述技术方案，该方案中的光阑本体便于使用者安装在杜瓦上段的内部，安装后光阑本体可以更好的和杜瓦上段契合。

第二方面，一种光线在光阑内部的光学仿真测试方法，该光线在光阑内部的光学仿真测试方法，包括以下步骤；

步骤一、设计光阑的结构并进行仿真；