[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种成膜装置，其中在减压后的处理容器内设有在基板进行真空成膜的成膜室、以及与所述成膜室连通并对所述基板进行冷却的冷却室，其中，

所述冷却室具备：

供所述基板移动的通路；以及

冷却装置，其配置于所述处理容器的内壁，包括与所述通路相对的表面积扩大构造部、以及冷却剂的冷却剂流路。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

所述表面积扩大构造部包括从所述处理容器的内壁朝向所述通路突出设置的多个突出部，

所述冷却剂流路沿着所述突出部形成。

3.根据权利要求2所述的成膜装置，其中，

所述突出部包括三棱柱状的基部，所述基部的剖面呈朝向所述通路凸出的三角形，所述基部的侧面的延伸方向与从所述成膜室向所述冷却室移动的所述基板的移动方向垂直。

4.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，

所述突出部还具备从所述基部突出的枝部。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的成膜装置，其中，

所述突出部的表面被表面粗化处理。

6.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

所述表面积扩大构造部具备包含开孔的发泡金属。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的成膜装置，其中，

在所述表面积扩大构造部的所述成膜室侧的端部，设有在缩小所述通路的宽度的方向上伸出的伸出部。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的成膜装置，其中，

所述冷却室中的所述处理容器的内壁和所述表面积扩大构造部为黑色。

9.一种成膜装置，其具备：

在基板进行真空成膜的成膜室；以及

冷却室，其与所述成膜室连通，比所述成膜室的压力高，对所述基板进行冷却；

所述成膜室和所述冷却室设置于减压后的处理容器内。

10.根据权利要求9所述的成膜装置，其中，

所述成膜装置还具备压力调节室，所述压力调节室设置在所述成膜室与所述冷却室之间，具有比所述成膜室压力高、比所述冷却室的压力低的压力。

11.一种成膜装置，其中在减压后的处理容器内设有对基板进行真空成膜的成膜室、以及与所述成膜室连通并对所述基板进行冷却的冷却室，其中，

所述冷却室具备：

冷却容器，其填充有由与成膜材料相同或者包含该成膜材料的材料制成的多个金属球，以所述基板被多个所述金属球包围的状态对所述基板进行保持；以及

对所述冷却容器进行冷却的冷却装置。

12.根据权利要求11所述的成膜装置，其中，

多个所述金属球包含多个不同直径的金属球。

13.根据权利要求11所述的成膜装置，其中，

所述成膜装置还具备对所述冷却容器和所述基板的至少任一者施加超声波的超声波发生装置，

在所述冷却容器和所述基板的至少任一者被施加超声波的状态下，从多个所述金属球中取出所述基板或向多个所述金属球中放入所述基板。