[发明专利]一种低光泽度紫铜带材的制备方法

说明书

本发明公开了一种低光泽度紫铜带材的制备方法，其特征在于：该紫铜的质量百分比组成为Cu≥99.95wt％，余量为不可避免的杂质；制备流程包括熔炼→铸造→热轧→铣面→冷轧→退火→电解脱脂→化学研磨→水洗→烘干；所述化学研磨工艺中，研磨剂喷涂在紫铜带的表面，研磨剂的质量百分比组成为双氧水：0.01～10％，浓硫酸：3～20％，余量为水；研磨刷目数：400～3000目，研磨刷半径：300～500mm，压下量：0.5～4mm，转速：400～1500r/min。该紫铜带材轧制面上沿轧制方向的光泽度≤300GU。化学研磨前，紫铜带材的表面粗糙度Ra≤0.2μm，化学研磨后，紫铜带材表面粗糙度的上升率控制在50％以下。

技术领域

本发明涉及铜合金领域，具体涉及一种低光泽度紫铜带材及其制备方法。

背景技术

现代电子产品器件制造过程中，一些屏蔽件、壳体等零部件往往需要通过受激发射光在铜材表面雕刻零件型号、二维码等标签，或进行激光定位，这种技术的应用对材料表面质量提出了非常高的要求。材料需要具有均匀、良好的表面质量，最重要的是具有低的光泽度，以有效吸收高能量光束，提高生产效率和稳定性。若表面光泽度过高，则对发射至其表面的光束产生较大的反射作用，即所吸收的能量降低，使得激光雕刻或定位无法达到预期效果，若此时为了使生产顺利进行，通常做法是进一步增强光束能量，而这种做法所面临的问题是，激发光束能量的提升幅度要依照材料表面的光泽度不断进行调整，这会造成能源和生产效率的浪费，并且产品质量的稳定性会受到不利影响，这些问题已经在生产中被广泛验证。

通常对需要进行激光雕刻或定位的紫铜带材的表面要求是：平行轧制方向的光泽度在300GU以下，市场上常见的紫铜带材、轧制、退火以及清洗工艺后会导致光泽度的的不断上升，表面光泽度在450GU以上，无法满足使用激光的生产要求。

发明内容

本发明所要解决的第一个技术问题是提供一种满足力学性能的同时光泽度低且表面光洁度高的低光泽度紫铜带材的制备方法。

本发明解决第一个技术问题所采用的技术方案为：一种低光泽度紫铜带材的制备方法，其特征在于：该紫铜的质量百分比组成为Cu≥99.95wt％，余量为不可避免的杂质；制备流程包括熔炼→铸造→热轧→铣面→冷轧→退火→电解脱脂→化学研磨→水洗→烘干；所述化学研磨工艺中，研磨剂喷涂在紫铜带的表面，研磨剂的质量百分比组成为双氧水：0.01～10％，浓硫酸：3～20％，余量为水；研磨刷目数：400～3000目，研磨刷半径：300～500mm，压下量：0.5～4mm，转速：400～1500r/min。

电解脱脂主要是去除紫铜带材表面的油污，为后续研磨做好准备工作。

化学研磨是对带材表面进行微腐蚀后再通过研磨刷去除带材表面的腐蚀层，最终使表面形成均匀的表面纹路，具有哑光形貌，达到即光洁的同时又具有低光泽度的技术效果，而研磨剂和研磨刷相关参数的配合是实现该技术效果的关键技术手段。

研磨剂喷涂在紫铜带的表面，研磨剂的质量百分比组成为双氧水：0.01～10％，浓硫酸：3～20％，余量为水。该研磨剂能保证仅对带材表面进行微腐蚀，避免形成凹坑、麻点等。

为实现铜带表面光洁度与低光泽度的均衡，研磨刷目数：400～3000目，研磨刷半径：300～500mm，压下量：0.5～4mm，转速：400～1500r/min。

进一步，作为优选，所述研磨剂的流量：3～20m³/h，喷涂压力：0.5～10Mpa，温度为50～80℃，所述研磨剂的喷涂方向与紫铜带的移动方向相反，研磨剂停留时间：5～20s。研磨剂停留时间是指研磨剂从喷涂至紫铜带各个位置到紫铜带各个位置进入研磨之间的时间。

作为优选，所述研磨刷为一组，并沿上下方向设置在紫铜带材的两侧。

进一步，作为优选，所述电解脱脂的脱脂剂采用氢氧化钠水溶液，PH范围为7～9，溶液温度60～70℃。