[发明专利]一种抗菌微晶玻璃陶瓷及其制备方法、抗菌再生方法与应用

权利要求书

1.一种抗菌微晶玻璃陶瓷的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

(1)称取原料并混合，得到混合料；

其中，按照质量百分比计，所述原料包括：SrCO₃ 5～15％、Bi₂O₃ 45～65％、B₂O₃ 5～15％、TiO₂ 0～10％但不包括0％、Er₂O₃ 0.1～5％、Yb₂O₃ 0.1～10％；

(2)将步骤(1)所述混合料进行熔炼，得到基础玻璃液；

(3)将步骤(2)所述基础玻璃液倒入模具并进行结晶化，得到微晶玻璃陶瓷粗品；

(4)将步骤(3)所述微晶玻璃陶瓷粗品依次进行酸浸侵蚀、清洗与烘干，得到抗菌微晶玻璃陶瓷；其中，所述酸浸侵蚀采用的酸液为氢卤酸水溶液，所述氢卤酸水溶液为质量百分比为0.1～2％的盐酸水溶液；控制所述微晶玻璃陶瓷粗品与所述酸液的质量比为1:(5～6)。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤(1)中，按照质量百分比计，所述原料包括：SrCO₃ 10～15％、Bi₂O₃ 58～63％、B₂O₃ 5～10％、TiO₂ 5～10％、Er₂O₃ 1～3％、Yb₂O₃ 5～10％。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤(1)所述原料中，控制Er₂O₃与Yb₂O₃的质量比为1:(2～5)。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述原料的纯度均＞90％。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述混合采用球磨方式。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述球磨的时间为10～60min；所述球磨使用氧化锆球，且球料比为(45～55):1。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述熔炼的温度为1100～1400℃；步骤(2)所述熔炼的保温时间为5～60min。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)所述倒入模具中控制模具的预热温度为300～500℃。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)所述结晶化在空气氛围下进行。

10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)所述结晶化的升温速率为1～6℃/min；步骤(3)所述结晶化的目标温度为350～650℃；步骤(3)所述结晶化的保温时间为30～120min。

11.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(4)所述酸浸侵蚀的温度为20～30℃；步骤(4)所述酸浸侵蚀的时间为5～30min。

12.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(4)所述清洗包括采用蒸馏水进行冲洗。

13.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(4)所述烘干的温度为40～60℃；步骤(4)所述烘干的保温时间为60～180min。