[发明专利]一种具有表面触感的IMR膜片、成型件及制备方法在审

专利信息
申请号: 202211120788.0 申请日: 2022-09-15
公开(公告)号: CN115464996A 公开(公告)日: 2022-12-13
发明(设计)人: 杨名浩;邹李华;杨志方;熊丽端 申请(专利权)人: 武汉华工图像技术开发有限公司
主分类号: B41M5/025 分类号: B41M5/025;B29C45/14;B29B11/00;B29B11/12;B29B11/14;B05D5/12;B05D7/04;B05D3/12;B05D3/06
代理公司: 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 代理人: 何首春
地址: 430023 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 表面 触感 imr 膜片 成型 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种具有表面触感的IMR膜片,其特征在于,包括依次设置的抗静电层、基膜层、UV模压层、UV转印层、衔接层、图案组合层以及粘结层;

所述基膜层作为基底,其一侧涂布有抗静电层,用于除静电;其另一侧设有UV模压层,用于将其纹理结构转移至所述UV转印层;

所述UV转印层涂布于所述UV模压层上,用于与所述UV模压层分离后,在制件表面形成表面触感;

所述UV转印层上涂覆有衔接层,用于提高所述UV转印层与所述图案组合层的附着性;

所述图案组合层用于形成图案;

所述粘结层用于将所述IMR膜片与制件粘接。

2.根据权利要求1所述的具有表面触感的IMR膜片,其特征在于,所述UV模压层的厚度大于UV模压层纹理结构的凹凸深度,且所述UV转印层的厚度大于UV模压层纹理结构的凹凸深度;

所述凸凹深度范围为2~30μm,所述UV模压层的厚度范围为5~50μm;所述UV转印层的厚度范围为5~50μm。

3.根据权利要求1所述的具有表面触感的IMR膜片,其特征在于,所述UV模压层的玻璃化转化温度为40℃~100℃。

4.根据权利要求1所述的具有表面触感的IMR膜片,其特征在于,所述UV模压层为具有低表面能的UV胶,具体为含有有机硅或有机氟的材料;所述UV模压层的原料按重量份计,包括:

有机硅丙烯酸树脂或有机氟丙烯酸树脂,80~90份;α-羟基酮衍生物,1~3份;光引发剂二苯甲酮,1~3份;活性胺,1~3份;三羟甲基丙烷三丙烯酸酯,6~10份;甲苯,10~40份;丁酮,10~40份。

5.根据权利要求1所述的具有表面触感的IMR膜片,其特征在于,所述图案组合层与粘结层之间还设有衔接层。

6.一种具有表面触感的IMR成型件,其特征在于,包括权利要求1-5任一项所述的具有表面触感的IMR膜片、与其粘接的制件。

7.一种如权利要求1-5任一项所述的具有表面触感的IMR膜片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1:在基层膜的一侧涂布抗静电层;

S2:在基层膜另一侧进行UV模压,形成凸凹纹理;完成后,通过UV灯光照进行反复固化,直到完全固化;

S3:在UV模压层上涂布UV转印层,并通过UV灯光照进行固化,该步骤中使UV转印层不完全固化;

S4:在UV转印层上涂布衔接层;

S5:在衔接层上印刷相应的图案形成图案组合层;

S6:在图案组合层上涂布粘结层,干燥后形成具有表面触感IMR膜片。

8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,步骤S2中,UV灯固化功率≥300mj/cm2;步骤S3中,UV灯固化功率≤150mj/cm2

9.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,在基膜层靠近UV模压层的一侧进行表面处理,以保证基层膜与UV模压层的紧密结合;该表面处理的方法包括但不限于电晕处理法、火焰处理法、溶剂处理法及预涂层处理法。

10.一种具有表面触感的IMR成型件的制备方法,包括权利要求7-9任一项所述的具有表面触感的IMR膜片的制备方法,其特征在于,还包括如下步骤:

S7:采用模内注塑工艺,将IMR膜片中的图案转印到制件上,且UV转印层与UV转印层剥离,UV模压层处于制件的表面,形成表面触感;

S8:通过UV灯光照,使UV转印层完全固化,得到具有表面触感的IMR成型件。

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