[发明专利]钼钛锆合金纳米抛光液及钼钛锆合金工件的纳米抛光方法

权利要求书

1.一种钼钛锆合金纳米抛光液，其特征在于：包括溶剂水，以所述溶剂水的质量百分比计，还包括2～4％的硫酸钠以及0.6～1.5％的添加剂，所述添加剂为水溶性添加剂，包括0.1～0.5％的稳定剂和0.5～1％的螯合剂。

2.根据权利要求1所述的钼钛锆合金纳米抛光液，其特征在于：所述稳定剂为0.1～0.5％的甘油和所述螯合剂为0.5～1％的葡萄糖酸钠。

3.一种钼钛锆合金的纳米抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将2～4％的硫酸钠以及0.6～1.5％的添加剂溶解于溶剂水中，制备钼钛锆合金纳米抛光液；

S2、将所述钼钛锆合金纳米抛光液转移至电源系统的抛光槽中，并通过所述抛光槽与所述电源系统的电源负极连接，以形成进行抛光的阴极；

S3、将未经前处理的钼钛锆合金工件与所述电源系统的电源正极连接，并使得所述钼钛锆合金工件作为进行抛光的阳极；

S4、接通所述电源系统对所述阴极和所述阳极进行通电，采用恒压加工模式对所述钼钛锆合金工件的抛光；

S5、将抛光后的所述钼钛锆合金工件自所述抛光槽中移出，并对所述钼钛锆合金工件进行清洗烘干，以获取抛光后的所述钼钛锆合金工件。

4.根据权利要求3所述的钼钛锆合金工件的纳米抛光方法，其特征在于：在所述步骤S1中，所述钼钛锆合金纳米抛光液为在85±5℃的温度下混合溶解制成。

5.根据权利要求3所述的钼钛锆合金工件的纳米抛光方法，其特征在于：所述步骤S4具体为，接通所述电源系统的电源，将作为所述阳极的所述钼钛锆合金工件缓慢放入所述抛光槽中，在恒压加工模式条件下，使得所述钼钛锆合金工件与所述钼钛锆合金纳米抛光液进行充分反应。

6.根据权利要求5所述的钼钛锆合金工件的纳米抛光方法，其特征在于：所述恒压加工模式具体为，在恒定电压的条件下使得所述钼钛锆合金工件与所述钼钛锆合金纳米抛光液进行反应，且所述电压为305±5V。

7.根据权利要求5所述的钼钛锆合金工件的纳米抛光方法，其特征在于：所述钼钛锆合金工件与所述钼钛锆合金纳米抛光液反应的时间为1～10min。

8.根据权利要求3所述的钼钛锆合金工件的纳米抛光方法，其特征在于：所述步骤S5具体为，将抛光后的所述钼钛锆合金工件自所述抛光槽中移出，使用去离子水对反应后的所述钼钛锆合金工件进行清洗，并烘干，以获取抛光后的所述钼钛锆合金工件。

9.根据权利要求3所述的钼钛锆合金工件的纳米抛光方法，其特征在于：所述钼钛锆合金工件中钛的含量为0.4～0.7％；锆的含量为0.06～0.12％。