[发明专利]一种多层膜材料、极紫外光反射镜及其制备方法和应用在审
申请号: | 202211092329.6 | 申请日: | 2022-09-08 |
公开(公告)号: | CN116165848A | 公开(公告)日: | 2023-05-26 |
发明(设计)人: | 朱东风;张秀霞 | 申请(专利权)人: | 苏州江泓电子科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 黄明光 |
地址: | 215400 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多层 材料 紫外光 反射 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种多层膜材料,包括层叠的周期单元,所述周期单元包括依次层叠的B4C层、Mo层、Y层和Si层;所述多层膜材料的两面层分别为B4C层和Si层。
2.根据权利要求1所述多层膜材料,其特征在于,一个周期单元中,B4C层的厚度为0.48~0.52nm,Mo层的厚度为2.22~2.26nm,Y层的厚度为0.48~0.52nm,Si层的厚度为3.67~3.71nm。
3.根据权利要求2所述多层膜材料,其特征在于,一个周期单元的厚度为6.9~6.98nm。
4.根据权利要求1~3任一项所述多层膜材料,其特征在于,所述周期单元的个数为40~60。
5.一种极紫外光反射镜,包括基底和基底表面的多层膜,其特征在于,所述多层膜由权利要求1~4任一项所述多层膜材料构成;所述基底表面直接与多层膜中的B4C层接触。
6.根据权利要求5所述极紫外光反射镜,其特征在于,所述基底包括单晶硅片、石英或K9玻璃;
所述基底的粗糙度为0.28~0.32nm。
7.权利要求5或6所述极紫外光反射镜的制备方法,包括以下步骤:
在基底表面依次镀制B4C层、Mo层、Y层和Si层形成周期单元,重复镀制周期单元形成多层膜。
8.根据权利要求7所述制备方法,其特征在于,所述镀制的方式包括磁控溅射或脉冲激光沉积法。
9.根据权利要求8所述制备方法,其特征在于,当所述镀制的方式为磁控溅射时,镀制B4C层的溅射功率为110~130W,镀制Mo层的溅射功率为40~60W,镀制Y层的溅射功率为10~20W,镀制Si层的溅射功率为90~110W。
10.权利要求5或6所述极紫外光反射镜或权利要求7~9任一项所述制备方法制备得到的极紫外光反射镜在极紫外光刻机中的应用。
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