[发明专利]用于波导显示器的彩虹减少

权利要求书

1.一种制造多层光栅的方法，包括：

在衬底上沉积具有第一折射率分布的第一光致抗蚀剂；

在所述第一光致抗蚀剂上方沉积具有第二折射率分布的第二光致抗蚀剂；

光刻图案化所述第一光致抗蚀剂和所述第二光致抗蚀剂；

在图案化的第一光致抗蚀剂和第二光致抗蚀剂上沉积保护涂层；

在所述保护涂层上回填具有所述第二折射率分布的第三光致抗蚀剂；

部分去除回填的第三光致抗蚀剂，以形成包括所述第一光致抗蚀剂和所述第三光致抗蚀剂的第一图案化层；以及

在所述第三光致抗蚀剂上沉积具有所述第一折射率分布的第四光致抗蚀剂，以形成包括所述第二光致抗蚀剂和所述第四光致抗蚀剂的第二图案化层。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一光致抗蚀剂和所述第四光致抗蚀剂是第一材料，并且所述第二光致抗蚀剂和所述第三光致抗蚀剂是第二材料。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述衬底是波导。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一光致抗蚀剂包括有机材料。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一光致抗蚀剂是SSQ衍生物并且所述第二光致抗蚀剂是平坦化有机聚合物。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述保护涂层包括一层或更多层介电材料，所述一层或更多层介电材料包括以下中的至少一种：

HfO₂；

TiO₂；或者

Si₃N₄。

7.根据权利要求1所述的方法，其中沉积所述保护涂层包括使用原子层沉积(ALD)。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二图案化层中的所述第二光致抗蚀剂的每个实例与所述第一图案化层中的所述第一光致抗蚀剂的对应实例对准，并且所述第二图案化层中的所述第四光致抗蚀剂的每个实例与所述第一图案化层中的所述第三光致抗蚀剂的对应实例对准。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一图案化层具有第一折射率分布，并且所述第二图案化层具有相对于所述第一折射率分布反向的第二折射率分布。

10.根据权利要求1所述的方法，还包括在所述第二图案化层上沉积间隔层。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述间隔层包括滤光器。

12.根据权利要求10所述的方法，其中，所述间隔层包括以下中的至少一种：

有机聚合物；

介电层；或者

SSQ衍生物。

13.根据权利要求10所述的方法，其中，所述间隔层包括以下中的至少一种：

二氧化硅；

二氧化钛；

二氧化铪；或者

氮化硅。

14.根据权利要求10所述的方法，还包括：

在所述间隔层上沉积具有所述第二折射率分布的第五光致抗蚀剂；

光刻图案化所述第五光致抗蚀剂；

在图案化的第五光致抗蚀剂上沉积第二保护涂层；以及

在所述第二保护涂层上沉积具有所述第一折射率分布的第六光致抗蚀剂，以形成包括所述第五光致抗蚀剂和所述第六光致抗蚀剂的第三图案化层。

15.根据权利要求14所述的方法，其中所述第三图案化层中的所述第五光致抗蚀剂的每个实例与所述第二图案化层中的所述第四光致抗蚀剂的对应实例对准，并且所述第三图案化层中的所述第六光致抗蚀剂的每个实例与所述第二图案化层中的所述第二光致抗蚀剂的对应实例对准。