[发明专利]一种高性能抗菌性反渗透膜及其制备方法

权利要求书

1.一种高性能抗菌性反渗透膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1：将铸膜液均匀涂覆在无纺布上，将涂覆有铸膜液的无纺布置于10-40℃的纯水凝固浴中，使铸膜液固化于无纺布上，形成聚砜多孔支撑层，无纺布层和置于无纺布层上的聚砜多孔支撑层构成底膜；

S2：将银纳米线分散在纯水中，采用超声波超声分散10-120min，使银纳米线均匀分散在纯水中，配制成浓度为100-1000PPM的银纳米线分散液；

S3：将银纳米线分散液均匀涂覆在所述底膜上，在40-80℃的温度下干燥3-10min，形成附有银纳米线层的底膜；其中，银纳米线的长度为10-50μm，银纳米线的直径为1-10nm；

S4：将间苯二胺溶解在水中配制成水相溶液，水相溶液中间苯二胺的质量分数为3wt%；将均苯三甲酰氯和正己烷混合配制成油相溶液，所述油相溶液中均苯三甲酰氯的质量分数为0.3wt%；

S5：将附有银纳米线层的底膜浸没在水相溶液中5-10min，取出并干燥，以去除多余的水相，然后再浸没在油相溶液中1-2min，油相溶液与水相溶液在银纳米线层的表面发生界面聚合反应，反应形成聚酰胺层，然后取出并干燥，得到抗菌性反渗透膜。

2.根据权利要求1所述的高性能抗菌性反渗透膜的制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述银纳米线分散液的浓度为100-500PPM。

3.根据权利要求1所述的高性能抗菌性反渗透膜的制备方法，其特征在于，步骤S3中，底膜上涂覆银纳米线分散液后，置于50℃的烘箱中干燥5min，得到附有银纳米线层的底膜。

4.根据权利要求1所述的高性能抗菌性反渗透膜的制备方法，其特征在于，步骤S5中，将附有银纳米线层的底膜浸没在水相溶液中，待水相溶液完全浸润附有银纳米线层的底膜，浸泡10min后取出，然后置于50℃烘箱中去除多余的水相。

5.根据权利要求4所述的高性能抗菌性反渗透膜的制备方法，其特征在于，步骤S5中，在油相溶液中的浸泡时间为1min，在油相溶液中浸泡后的干燥条件为：在65℃的鼓风干燥箱中烘干5min。