[发明专利]一种静电放电保护装置、等效电路及芯片在审

专利信息
申请号: 202211072441.3 申请日: 2022-09-02
公开(公告)号: CN115296286A 公开(公告)日: 2022-11-04
发明(设计)人: 姜俊伟;耿靖斌;耿娟娟;李志翔 申请(专利权)人: 北京微科能创科技有限公司
主分类号: H02H9/04 分类号: H02H9/04
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 高燕
地址: 100080 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 静电 放电 保护装置 等效电路 芯片
【说明书】:

本申请提供了一种静电放电保护装置、等效电路及芯片,静电放电保护装置包括第一深阱区和第二深阱区、第三深阱区和第四深阱区、第一注入区和第二注入区、第三注入区和第四注入区、第一阱区和第二阱区、第五注入区和第六注入区,其中,第五注入区用于与芯片的PAD端口连接,第六注入区用于接地,在负向ESD发生时,也能起到很好的防护作用。

技术领域

本申请涉及半导体技术领域,具体而言,涉及一种静电放电保护装置、等效电路及芯片。

背景技术

在芯片领域,优秀的静电释放(ESD,Electro-Staticdischarge)装置,对保护端口安全十分重要。现有的ESD结构防护设计当中,主要面向提高ESD耐正压输入的要求,而对负压输入的考量较少。而对于工业使用的高压芯片来说,由于工作条件的复杂性,输入负压的范围更宽,现有的ESD结构无法满足使用要求。

发明内容

有鉴于此,本申请的目的在于提供一种静电放电保护装置、等效电路及芯片,以在满足ESD结构正电压输入要求的情况下,同时满足负电压的输入要求。

第一方面,本申请提供了一种静电放电保护装置,静电放电保护装置装置包括第一深阱区和第二深阱区,第一深阱区和第二深阱区形成在半导体衬底中,第一深阱区和第二深阱区具有第一导电类型;第三深阱区和第四深阱区,第三深阱区形成在第一深阱区中,第三深阱区具有第二导电类型,第四深阱区形成在第二深阱区中,第四深阱区具有第二导电类型;第一注入区和第二注入区,第一注入区和第二注入区形成在第一深阱区中,第一注入区和第二注入区的导电类型不同;第三注入区和第四注入区,第三注入区和第四注入区形成在第二深阱区中,第三注入区和第四注入区的导电类型不同,第三注入区与第一注入区的导电类型相同;第一阱区和第二阱区,第一阱区形成在第三深阱区中,第一阱区具有第二导电类型,第二阱区形成在第四深阱区中,第二阱区具有第二导电类型;第五注入区和第六注入区,第五注入区形成在第一阱区中,第五注入区具有第二导电类型,第六注入区形成在第二阱区中,第六注入区具有第二导电类型;其中,第五注入区用于与芯片的PAD端口连接,第六注入区用于接地。

优选的,还包括第五深阱区,第五深阱区形成在半导体衬底中,且第五深阱区设置在第一深阱区和第二深阱区之间有,第五深阱区具有第二导电类型。

优选的,第三深阱区设置在第一深阱区中远离第五深阱区的一侧,第四深阱区设置在第二深阱区中远离第五深阱区的一侧。

优选的,第一注入区具有第二导电类型,第二注入区具有第一导电类型,第二注入区设置在靠近第五深阱区的一侧,第一注入区与第二注入区相邻,第一注入区位于第二注入区和第三深阱区之间;第三注入区具有第二导电类型,第四注入区具有第一导电类型,第四注入区设置在靠近第五深阱区的一侧,第三注入区与第四注入区相邻,第三注入区位于第四注入区和第四深阱区之间。

优选的,半导体衬底具有第二导电类型。

优选的,第一导电类型为N型,第二导电类型为P型。

第二方面,本申请提供了一种静电放电保护装置的等效电路,静电放电保护装置为如前述的静电放电保护装置,静电放电保护装置的等效电路包括第一MOS管和第二MOS管,第一MOS管的栅极与第二MOS管的栅极连接,第一MOS管的源极与第二MOS管的源极连接,第一MOS管的源极还与第二MOS管的栅极连接,第一MOS管的基极与第二MOS管的基极连接,第一MOS管的源极还与第二MOS管的基极连接。

优选的,第一MOS管的漏极与芯片的PAD端口连接,第二MOS管的漏极接地。

优选的,以第五注入区为第一MOS管的漏极,以第三深阱区和第一深阱区为第一MOS管的栅极,以第一注入区和第二注入区为第一MOS管的源极;以第六注入区为第二MOS管的漏极,以第二深阱区和第四深阱区为第二MOS管的栅极,以第三注入区和第四注入区为第二MOS管的源极。

第三方面,本申请还提供一种芯片,芯片包括如前述的静电放电保护装置。

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