[发明专利]抗静电抗反射的涂层

权利要求书

1.一种抗反射抗静电光学涂层，所述涂层由下述组成：

多层第一材料的透明氧化物形式和不同于第一材料的多层第二材料的透明氧化物形式，所述多层第二材料的透明氧化物形式中的至少一层介于所述多层第一材料的氧化物形式中的两层之间；和

导电层，所述导电层仅包括在惰性气氛中形成的第一材料或第二材料的非氧化物形式，并且所述导电层的厚度在2-12nm的范围内。

2.根据权利要求1所述的光学涂层，其中所述第一材料的氧化物形式具有约大于1.9的高折射率。

3.根据权利要求1所述的光学涂层，其中所述第二材料的氧化物形式具有约小于1.5的低折射率。

4.根据权利要求1所述的光学涂层，其中所述第一材料的氧化物形式是二氧化锆。

5.根据权利要求1所述的光学涂层，其中所述第二材料的氧化物形式是二氧化硅。

6.根据权利要求1所述的光学涂层，其中所述第一材料是过渡金属。

7.根据权利要求1所述的光学涂层，其中所述第一材料是锆。

8.根据权利要求1所述的光学涂层，还包括由所述第一材料或所述第二材料形成的粘胶层。

9.根据权利要求1所述的光学涂层，其中所述光学涂层包括至少五层。

10.根据权利要求1所述的光学涂层，其中所述光学涂层具有95％或更高的透射比。

11.一种抗反射抗静电光学透镜，所述透镜由下述组成：

光学基板；

施加在光学基板的表面的多层第一材料的氧化物形式；

施加在光学基板的表面的多层第二材料的氧化物形式，所述多层第二材料的氧化物形式的中至少一层介于所述多层第一材料的氧化物形式中的两层之间，其中多层第一材料的氧化物形式和多层第二材料的氧化物形式形成施加在光学基板的表面的堆叠；和

仅由施加到光学基板的表面的基本上单质的或合金的形式的第一材料或第二材料组成的导电层。

12.根据权利要求11所述的光学透镜，其中光学基板是铸塑树脂。

13.根据权利要求11所述的光学透镜，其中所述第一材料是过渡金属或准金属。

14.一种形成抗反射抗静电光学涂层的方法，所述方法由下述组成：

基板转移至沉积室；

通过在沉积室中反应溅射，在基板上形成在第一靶材的氧化物形式和不同于第一靶材的第二靶材的氧化物形式之间交替的多个层；和

通过在沉积室中非反应溅射，在多层交替层的其中一层的表面上形成仅第一靶材或第二靶材的非氧化物形式的导电层，所述导电层的厚度在2-12nm的范围内。

15.根据权利要求14所述的形成抗反射抗静电光学涂层的方法，还包括将由第一材料或第二材料形成的粘胶层直接施加到光学基板表面。

16.根据权利要求14所述的形成抗反射抗静电光学涂层的方法，还包括形成至少共五层。

17.根据权利要求15所述的形成抗反射抗静电光学涂层的方法，其中粘胶层是导电的。

18.根据权利要求14所述的形成抗反射抗静电光学涂层的方法，其中形成第一材料的氧化物形式和第二材料的氧化物形式的多层交替层的步骤包括折射率约大于1.9的层、折射率约在1.5和1.9之间的层，以及折射率约低于1.5的层。

19.根据权利要求14所述的形成抗反射抗静电光学涂层的方法，其中在所述多层交替层的其中一层的表面上形成第一靶材或第二靶材的导电层步骤包括形成锆层。