[发明专利]机台overlay监测方法、存储介质及系统在审
申请号: | 202211009621.7 | 申请日: | 2022-08-22 |
公开(公告)号: | CN115453827A | 公开(公告)日: | 2022-12-09 |
发明(设计)人: | 周侃;王志宏;赵弘文 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 焦天雷 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 机台 overlay 监测 方法 存储 介质 系统 | ||
本发明公开了一种机台overlay监测方法,包括以下步骤:KT机台拍摄overlaymark照片;将拍摄照片与预存照片进行图像对比,若对比度超过指定阈值,则判断标记正常,正常进行KT量测;若对比度小于等于指定阈值,则判断标记错误,退回到image为基础的量测。本发明能有效监测8um shift error,避免造成线上跑货实际情况的误判,使有问题的wafer流出,造成不可挽回的损失。
技术领域
本发明涉及集成电路制造领域,特别是涉及一种机台overlay监测方法。以及,一种用于执行所述的机台overlay监测方法中步骤的计算机可读存储介质和一种用于执行所述的机台overlay监测方法的计算机系统。
背景技术
ASML scanner机台在做Alignment过程中,会发生8um的shift error。即当前层相比前层overlay会有8um的shift。然则现行的KT overlay量测无法甄别出overlay的shifterror。在光学显微镜下已经检查得到当前wafer已经有8um shift。但是在KT overlay量测时,仍旧有overlay量测值以及量测map。这就造成线上跑货实际情况的误判,使有问题的wafer流出,造成不可挽回的损失。
KT overlay的量测时基于image的卷积求和运算,机台会分别计算前层mark以及当层mark的中心位置,进而得到两层之间的overlay的值。图1所示,如果发生8um error,机台会把图2中的标记2位置错误识别成图1中的标记1,仍旧进行卷积计算,得到错误的overlay值。
发明内容
在发明内容部分中引入了一系列简化形式的概念,该简化形式的概念均为本领域现有技术简化,这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本发明的发明内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征,更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。
本发明要解决的技术问题是提供一种能及时准确发现overlay错误的机台overlay监测方法。
为解决上述技术问题,本发明提供的机台overlay监测方法,包括以下步骤:
S1,KT机台拍摄overlay mark照片;
S2,将拍摄照片与预存照片进行图像灰阶对比,主要是对比标记峰值区域。若对比度超过指定阈值,则判断标记正常,正常进行KT量测;若对比度小于等于指定阈值,则判断标记错误,退回到image为基础的量测。
其中,所述的机台overlay监测方法,若对比度小于等于指定阈值,还将拍摄照片与预存照片进行二值化图像灰阶值对比。
进行二值化图像灰阶值对比时,若X和Y两个方向均得到4条峰值;
则分别计算X和Y方向上第一条灰阶峰和第三条灰阶峰中心位置差,第二条灰阶峰和第四条灰阶峰中心位置差,分别得到X和Y方向的overlay值。
其中,进行二值化图像灰阶值对比时,若在X和Y两个方向其中仅一个方向得到四条灰阶峰,另外方向仅得到两条灰阶峰,则判断在只出现两条灰阶峰的方向出现错误,机台向EAP报FDC hold 8um错误发生。
其中,进行二值化图像灰阶值对比时,若在X和Y两个方向均得到小于等于三条灰阶峰,则判断标记损坏。
本发明还提供一种用于执行所述的机台overlay监测方法中步骤的计算机可读存储介质,其能通过计算机编程技术手段实现然后存储在硬盘、U盘等现有技术的计算机可读存储介质中。
本发明还提供一种用于执行所述的机台overlay监测方法的计算机系统,其通过计算机编程技术手段利用现有的计算机硬件实现。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力集成电路制造有限公司,未经上海华力集成电路制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211009621.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。