[发明专利]一种适用于硅晶圆再生的抛光组合物、制备方法及其应用有效
| 申请号: | 202211005506.2 | 申请日: | 2022-08-22 |
| 公开(公告)号: | CN115386300B | 公开(公告)日: | 2023-09-19 |
| 发明(设计)人: | 王庆伟;卞鹏程;崔晓坤;王瑞芹;徐贺;王永东;李国庆;卫旻嵩 | 申请(专利权)人: | 万华化学集团电子材料有限公司 |
| 主分类号: | C11D7/02 | 分类号: | C11D7/02;C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 264006 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 适用于 硅晶圆 再生 抛光 组合 制备 方法 及其 应用 | ||
1.一种适用于硅晶圆再生的抛光组合物,其特征在于,所述抛光组合物以二氧化硅水溶胶为主要抛光组分,并添加有有机碱、表面保护剂、pH调节剂、三价金属铈盐、金属亚铁盐、有机酸稳定剂;
所述抛光组合物包括以下重量百分含量的组分:
余量为去离子水。
2.根据权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于,所述抛光组合物包括以下重量百分含量的组分:
余量为去离子水。
3.根据权利要求1或2所述的抛光组合物,其特征在于,所述有机酸稳定剂的质量分数与三价金属铈盐和金属亚铁盐的金属盐的质量分数总和之比大于等于1。
4.根据权利要求3所述的抛光组合物,其特征在于,所述二氧化硅水溶胶的粒径为30-120nm,固含量为10-50wt%。
5.根据权利要求1或2所述的抛光组合物,其特征在于,所述有机酸稳定剂选自甲酸、乙酸、丙酸、衣康酸、琥珀酸、酒石酸、柠檬酸、马来酸、乙醇酸、丙二酸、草酸、丁二酸、苹果酸、葡萄糖酸、丙氨酸、甘氨酸、乳酸、三氟乙酸、乙二胺四乙酸、氮川三乙酸、二乙烯三胺五乙酸、丙二胺四乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、焦磷酸、2-氨基乙基膦酸、1-羟基乙叉1,1-二膦酸、氨基三亚甲基膦酸、乙二胺四亚甲基膦酸、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸、乙烷-1,1-二膦酸、乙烷-1,1,2-三膦酸、甲烷羟基膦酸、1-膦酰基丁烷-2,3,4-三羧酸或其盐中的至少任一种。
6.根据权利要求5所述的抛光组合物,其特征在于,所述有机酸稳定剂选自柠檬酸、丙二酸、酒石酸、乙二胺四乙酸、丙二胺四乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸中的至少任一种。
7.根据权利要求1或2所述的抛光组合物,其特征在于,所述表面保护剂选自聚乙二醇、聚乙烯醇、聚丙二醇、聚四亚甲基二醇、聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯烷基胺、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯甘油醚脂肪酸酯、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚乙烯吡咯烷酮、马来亚酸酐-苯乙烯共聚物、甲基纤维素、羧甲基纤维素、羟丙基纤维素、羟乙基纤维素、明胶、蛋白质、淀粉、藻酸或其盐类中的至少任一种。
8.根据权利要求7所述的抛光组合物,其特征在于,所述表面保护剂的相对分子质量为200-200000。
9.根据权利要求8所述的抛光组合物,其特征在于,所述表面保护剂选自聚乙二醇、聚丙烯酸、羟乙基纤维素中的至少任一种。
10.根据权利要求1或2所述的抛光组合物,其特征在于,所述有机碱选自甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、乙二胺、单乙醇胺、N-(β-胺基乙基)乙醇胺、六亚甲基二胺、二亚乙基三胺、三亚己基四胺、1-(2-胺基乙基)哌嗪、N-甲基哌嗪、哌嗪、咪唑、1甲基咪唑、N甲基咪唑、四甲基胍、碳酸胍、盐酸胍、四甲基氢氧化铵、四甲基氯化铵、四甲基溴化铵、四甲基氟化铵、四乙基氢氧化铵、四乙基氯化铵、四乙基溴化铵、四乙基氟化铵中的至少任一种。
11.根据权利要求10所述的抛光组合物,其特征在于,所述有机碱为四甲基氢氧化铵。
12.根据权利要求1或2所述的抛光组合物,其特征在于,所述三价金属铈盐选自硝酸铈、盐酸铈、碳酸铈、硫酸铈、草酸铈、醋酸铈中的至少任一种。
13.根据权利要求12所述的抛光组合物,其特征在于,所述三价金属铈盐为硝酸铈。
14.根据权利要求1或2所述的抛光组合物,其特征在于,所述金属亚铁盐选自氯化亚铁、硝酸亚铁、硫酸亚铁、碳酸亚铁、草酸亚铁、醋酸亚铁中的至少任一种。
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