[发明专利]提高波长分布均匀性的激光器制作方法在审
| 申请号： | 202210994217.3 | 申请日： | 2022-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN115425517A | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 王健;潘钺;易美军 | 申请（专利权）人： | 武汉敏芯半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/12 | 分类号： | H01S5/12 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 许美红 |
| 地址： | 430014 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 提高 波长 分布 均匀 激光器 制作方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高波长分布均匀性的激光器制作方法，其特征在于，该方法包括：在晶圆形成之前，对于同一个波长通道，采用两种或两种以上的光栅周期设计；然后利用该晶圆制作激光器。
2.根据权利要求1所述的提高波长分布均匀性的激光器制作方法，其特征在于，根据该波长通道的中心波长和波导等效折射率确定光栅周期，同时该波导等效折射率对应着激光器的脊宽。
3.根据权利要求1或2所述的提高波长分布均匀性的激光器制作方法，其特征在于，脊宽范围为1.5～2微米。
4.根据权利要求1或2所述的提高波长分布均匀性的激光器制作方法，其特征在于，光栅采用非对称λ/4相移光栅。
5.根据权利要求4所述的提高波长分布均匀性的激光器制作方法，其特征在于，采用EBL或纳米压印制作光栅。
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