[发明专利]一种电驱动空气槽结构的氮化物微盘激光器及其制备方法

权利要求书

1.一种电驱动空气槽结构的氮化物微盘激光器，其特征是，所述激光器以硅基氮化镓为载体，包括从下至上依次设置的硅衬底层(1)、缓冲层(2)、u型氮化镓层(3)、n型氮化镓层(4)、量子阱层(5)和p型氮化镓层(6)，

所述n型氮化镓层(4)上设有n型电极(8)，所述p型氮化镓层(6)设置有p型电极(7)；

所述量子阱层(5)的周部设有空气槽结构。

2.根据权利要求1所述的一种电驱动空气槽结构的氮化物微激光器，其特征是，所述n型氮化镓层(4)的周部刻蚀有台阶结构，所述n型氮化镓层(4)包括下台阶层和上台阶层；

所述n型电极(8)为环形电极，设置于下台阶层的上边缘处。

3.根据权利要求2所述的一种电驱动空气槽结构的氮化物微盘激光器，其特征是，所述硅衬底层(1)、缓冲层(2)、u型氮化镓层(3)、下台阶层、上台阶层、量子阱层(5)、p型氮化镓层(6)和p型电极(7)的横截面均为圆形。

4.根据权利要求3所述的一种电驱动空气槽结构的氮化物微盘激光器，其特征是，所述p型氮化镓层(6)的半径与上台阶层的半径相等，均大于所述量子阱层(5)的半径，从而形成空气槽结构。

5.根据权利要求3所述的一种电驱动空气槽结构的氮化物微盘激光器，其特征是，所述p型电极(7)的半径小于p型氮化镓层(6)的半径；

所述上台阶层的半径小于下台阶层的半径；

所述缓冲层(2)、u型氮化镓层(3)、下台阶层的半径相等，均小于所述硅衬底层(1)的半径。

6.一种电驱动空气槽结构的氮化物微盘激光器的制备方法，其特征是，包括如下步骤：

获取晶片，其中，所述晶片包括由下至上设置的硅衬底层(1)、缓冲层(2)、u型氮化镓层(3)、n型氮化镓层(4)、量子阱层(5)和p型氮化镓层(6)；

采用ICP刻蚀技术，分别刻蚀所述晶片直至硅衬底层(1)的上表面和n型氮化镓层(4)上，使得n型氮化镓层(4)的周部形成一个台阶结构；

在所述晶片的上表面旋涂光刻胶，然后采用光学光刻技术在旋涂的光刻胶层上分别定义p型电极区域和n型电极区域；

采用电子束蒸镀技术在晶片表面上蒸镀金属电极，根据所述p型电极区域和n型电极区域去除残留的光刻胶，从而得到p型电极(7)和n型电极(8)；

采用光化学刻蚀技术，横向刻蚀所述量子阱层(5)，得到空气槽结构。

7.根据权利要求6所述的一种电驱动空气槽结构的氮化物微盘激光器的制备方法，其特征是，所述采用ICP刻蚀技术，分别刻蚀所述晶片直至硅衬底层(1)的上表面和n型氮化镓层(4)上，具体步骤如下：

在所述晶片的上表面旋涂光刻胶，然后采用光学光刻技术在旋涂的光刻胶层上定义第一区域；

采用ICP刻蚀技术，根据所述第一区域向下刻蚀直至硅衬底层(1)的上表面；

在所述晶片的上表面重新旋涂光刻胶，然后采用光学光刻技术在旋涂的光刻胶层上定义第二区域；

采用ICP刻蚀技术，根据所述第二区域向下刻蚀直至n型氮化镓层(4)上，使得n型氮化镓层(4)的周部形成一个台阶结构。

8.根据权利要求6所述的一种电驱动空气槽结构的氮化物微盘激光器的制备方法，其特征是，所述金属电极的材质包括镍合金。