[发明专利]一种含包覆层的磁性粉末及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种含包覆层的磁性粉末，其特征在于，所述含包覆层的磁性粉末中的颗粒包括由内到外依次设置的磁粉内核、磷化层、硅包覆层、偶联剂层、二元酸层和二元胺层。

2.如权利要求1所述含包覆层的磁性粉末，其特征在于，所述磁粉内核包括永磁铁氧体、钕铁硼、钐铁氮、钐钴、铁粉、铁硅、铁硅铝、铁硅铬、铁镍、铁镍钼或非晶粉中的1种或至少2种的组合；

优选地，所述磷化层为采用磷酸、磷酸锌、磷酸锰、磷酸氢钠或焦磷酸中的1种或至少2种对磁粉表面进行腐蚀得到。

3.如权利要求1或2所述含包覆层的磁性粉末，其特征在于，所述含包覆层的磁性粉末中以质量百分含量计磷元素为0.01-5‰，硅元素为0.01-5‰，有机物为0.01-2％。

4.一种如权利要求1-3任一项所述含包覆层的磁性粉末的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将磁粉依次进行磷酸处理、硅处理、偶联剂处理、二元酸处理和二元胺处理，得到所述含包覆层的磁性粉末。

5.如权利要求4所述制备方法，其特征在于，所述磷酸处理为采用含磷酸和/或磷酸盐溶液对磁粉进行处理；

优选地，所述磷酸处理的时间为10-60min。

6.如权利要求4或5所述制备方法，其特征在于，所述硅处理为采用含硅质溶液对磷酸处理后的磁粉进行处理；

优选地，所述硅处理的时间为10-60min。

7.如权利要求4-6任一项所述制备方法，其特征在于，所述偶联剂处理为采用含硅烷偶联剂溶液对硅处理后的物料进行处理；

优选地，所述硅烷偶联剂包括γ-氨丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-氨乙基氨丙基三甲氧基硅烷或γ-氨乙基氨丙基三乙氧基硅烷中的1种或至少2种的组合；

优选地，所述偶联剂处理的时间为10-60min。

8.如权利要求4-7任一项所述制备方法，其特征在于，所述二元酸处理为采用含二元酸溶液对偶联剂处理后的物料进行处理；

优选地，所述二元酸包括己二酸、癸二酸、十二碳二元酸、十六碳二元酸或十八碳二元酸中的1种或至少2种的组合；

优选地，所述二元酸处理的时间为10-60min；

优选地，所述二元胺处理为采用含二元胺溶液对二元酸处理后的物料进行处理；

优选地，所述二元胺包括己二胺、癸二胺、十二碳二元胺、十六碳二元胺或十八碳二元胺中的1种或至少2种的组合；

优选地，所述二元胺处理的时间为10-60min。

9.如权利要求4-8任一项所述制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将磁粉依次进行磷酸处理、硅处理、偶联剂处理、二元酸处理和二元胺处理，得到所述含包覆层的磁性粉末；

所述磷酸处理为采用含磷酸和/或磷酸盐溶液对磁粉进行处理，时间为10-60min；

所述硅处理为采用含硅质溶液对磷酸处理后的磁粉进行处理，时间为10-60min；

所述偶联剂处理为采用含硅烷偶联剂溶液对硅处理后的物料进行处理，所述硅烷偶联剂包括γ-氨丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-氨乙基氨丙基三甲氧基硅烷或γ-氨乙基氨丙基三乙氧基硅烷中的1种或至少2种的组合，时间为10-60min；

所述二元酸处理为采用含二元酸溶液对偶联剂处理后的物料进行处理，所述二元酸包括己二酸、癸二酸、十二碳二元酸、十六碳二元酸或十八碳二元酸中的1种或至少2种的组合，时间为10-60min；

所述二元胺处理为采用含二元胺溶液对二元酸处理后的物料进行处理，所述二元胺包括己二胺、癸二胺、十二碳二元胺、十六碳二元胺或十八碳二元胺中的1种或至少2种的组合，时间为10-60min。

10.如权利要求1-3任一项所述含包覆层的磁性粉末的用途，其特征在于，所述用途包括将粘合剂、助剂和所述含包覆层的磁性粉末进行混合后，经加工得到磁性复合材料；

优选地，所述粘合剂包括尼龙6、尼龙11、尼龙12、聚苯硫醚、环氧树脂、硅树脂、氯化聚乙烯、EVA或丁腈橡胶中的1种或至少2种的组合；

优选地，所述粘合剂的添加量为磁粉质量的0.5-30％；

优选地，所述助剂包括抗氧剂1010、抗氧剂168、硬脂酸、硬脂酸锌、乙撑双硬脂酸酰胺、季戊四醇硬脂酸酯或硅油中的1种或至少2种的组合；

优选地，所述助剂的添加量为所述磁性复合材料质量的0.1-3％；

优选地，所述混合的时间为5-30min。