[发明专利]提供结构光的衍射光学设备在审
| 申请号： | 202210915056.4 | 申请日： | 2019-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN115390172A | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | T.R.M.塞尔斯;S.H.查克玛简;G.M.莫里斯 | 申请（专利权）人： | 唯亚威解决方案股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 胡琪 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 提供 结构 衍射 光学 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种照射系统，包括：
照射源；以及
衍射光学元件，包括微结构，所述微结构具有相位轮廓，所述相位轮廓至少部分地相位解缠但低于完全相位解缠。
2.根据权利要求1所述的照射系统，其中，所述照射源发出由所述衍射光学元件接收的结构光。
3.根据权利要求2所述的照射系统，其中，当照射波长具有特定值时，所述衍射光学元件投射所述结构光。
4.根据权利要求3所述的照射系统，其中，所述结构光不包括零衍射级的热点。
5.根据权利要求3所述的照射系统，其中，所述结构光不包括任何影响光强度均匀性的伪像。
6.根据权利要求2所述的照射系统，其中，所述衍射光学元件将所述结构光衍射成多个衍射级。
7.根据权利要求2所述的照射系统，其中，所述结构光选自光点、点、子束、线、几何形状、阵列或其组合。
8.根据权利要求1所述的照射系统，其中，所述照射源具有预先指定的具有相同强度的衍射级位置。
9.根据权利要求1所述的照射系统，其中，所述衍射光学元件具有连续变化的相位轮廓。
10.根据权利要求1所述的照射系统，其中所述衍射光学元件在指定的空间区域上分布照射，其中每个单独的光束与空间中的特定位置和强度相关联。
11.根据权利要求1所述的照射系统，其中，所述衍射光学元件包括第一表面上的微结构和第二表面上的微结构。
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