[发明专利]流控制系统、包含该系统的基板处理装置和基板处理方法

权利要求书

1.一种流控制系统，用于控制在管道内移动的气体的流速，所述流控制系统包括：

设置在所述管道内的节气阀，用于通过收缩或膨胀来控制所述管道的打开/闭合率；以及

压力控制单元，用于将气体供应到所述节气阀中或者使所述节气阀的内部排气，并且

其中所述压力控制单元包括压力控制管，用于使所述气体通过所述节气阀的入口流入/流出所述节气阀。

2.根据权利要求1所述的流控制系统，其中，所述节气阀被提供为弹性体。

3.根据权利要求1所述的流控制系统，其中，所述节气阀被提供为球形形式。

4.根据权利要求1所述的流控制系统，其中，所述压力控制管被提供为能够固定至所述管道的内壁。

5.根据权利要求1所述的流控制系统，其中，所述压力控制管包括：

固定部，用于固定至所述管道的内壁；以及

弯曲部，其从所述固定部延伸并弯曲并且联接到所述入口。

6.根据权利要求5所述的流控制系统，其中，所述弯曲部和所述管道被设置为彼此平行。

7.根据权利要求5所述的流控制系统，还包括密封构件，用于连接和密封所述弯曲部以及所述节气阀的中心区域的顶部或底部。

8.根据权利要求1所述的流控制系统，其中，所述压力控制单元还包括：

压力测量装置，用于测量在所述节气阀的前端处所述管道内的压力；

调节器，用于调节流入/流出所述节气阀的气体的压力；以及

控制器，用于基于在所述压力测量装置处测量的所述管道内的压力控制所述调节器。

9.一种基板处理装置，包括：

在内部具有处理空间的多个处理腔体，用于处理所述处理空间内的基板；以及

管道单元，用于将气体供应到所述处理空间内或从所述处理空间排出，并且，

其中所述管道单元包括：

直接连接到一个或多个处理腔体的处理空间的多个管道；

连接到所述多个管道的集成管；以及

用于控制在所述管道内移动的气体的流速的流控制系统，并且，

其中所述流控制系统包括：

设置在所述管道内的节气阀，用于通过体积变化来控制所述管道的打开/闭合率；

压力控制单元，用于将气体供应到所述节气阀中或者使所述节气阀的内部排气，并且

其中所述压力控制单元包括压力控制管，用于使气体通过所述节气阀的入口流入/流出所述节气阀。

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中，所述节气阀被提供为弹性体。

11.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中，所述节气阀被提供为球形形式。

12.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中，所述压力控制管被提供为能够固定至所述管道的内壁。

13.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中，所述压力控制管包括：

固定部，用于固定至所述管道的内壁；以及

弯曲部，其从所述固定部延伸并弯曲并且联接到所述节气阀的入口。

14.根据权利要求13所述的基板处理装置，其中，所述弯曲部和所述管道被设置为彼此平行。

15.根据权利要求13所述的基板处理装置，还包括密封构件，用于连接和密封所述弯曲部以及所述节气阀的中心区域的顶部或底部。