[发明专利]一种超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法

说明书

本发明涉及精制提纯技术领域，具体公开一种超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法。所述制备方法包括以下步骤：将联苯醚四甲酸、盐酸分别加入到溶剂中，于125℃～140℃条件下溶解1h～3h，然后在搅拌条件下加入硅酸钠，搅拌0.5h～1h，降温至20℃～30℃后过滤，得滤饼；将所述滤饼经烘干、真空升华，得所述联苯醚二酐。采用本申请提供的制备方法，联苯醚四甲酸经一次处理即可得到目标产物，产品收率高达95％左右，产品纯度达到99.95％以上，产品中金属离子的含量低于80ppb，且生产过程中基本无废水产生，工艺简单，有利于进行工业推广和应用。

技术领域

本发明涉及精制提纯技术领域，尤其涉及一种超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法。

背景技术

联苯醚二酐(ODPA)能广泛应用于航空航天、微电子、纳米、液晶、分离过滤膜等领域。因应用领域不同，对联苯醚二酐品的纯度、洁净度的要求也不同。如电子级联苯醚二酐是制备聚酰亚胺的主要原料，航空航天用电子极聚酰亚胺对产品的纯度、洁净度、颗粒晶型、有机残留物、金属离子等污染物均有严格要求，甚至对金属离子的要求达到part perbillion级，并要求产品的纯度大于99.95％，因此对其制备原料的纯度和洁净度也有极高的要求。

而现有工艺制备的ODPA，产纯度可以99.5％～99.9％，金属离子只能达到ppm级别，使其难以满足应用于航空航天的电子极聚酰亚胺对原料的要求。即便通过加入大量混合溶剂进行金属离子脱除，也仅仅是得到金属离子量为1000ppb～5000ppb的ODPA，同时还会产生大量废液造成环保问题。因此，为满足聚酰亚胺作为特种工程材料在应用领域不断发展的要求，亟需寻找一种金属离子超痕量的高纯ODPA的制备方法，对企业打开ODPA高端市场和减少企业环保压力具有重要意义。

发明内容

鉴于此，本申请提供一种超痕量高纯ODPA的制备方法，利用盐酸与硅酸钠反应产生硅酸胶体，再通过降温使硅酸胶体与联苯醚四甲酸分子进行充分胶连，形成立体网状结构，能充分将含有的金属离子除去，再通过一步联苯醚四甲酸高温脱水、升华得到金属离子超痕量的高纯ODPA。

为达到上述发明目的，本发明实施例采用了如下的技术方案：

一种超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：

步骤一、将联苯醚四甲酸、盐酸分别加入到溶剂中，于125℃～140℃条件下溶解1h～3h，然后在搅拌条件下加入硅酸钠，搅拌0.5h～1h，降温至20℃～30℃后过滤，得滤饼，所述盐酸与所述硅酸钠的质量比为1～3:0.5～1；

步骤二、将所述滤饼经烘干、真空升华，得所述联苯醚二酐。

相对于现有技术，本申请提供的超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法，具有以下优势：

本申请通过盐酸助溶并提供酸性环境，再利用盐酸与硅酸钠反应得的硅酸胶体，再通过降温使硅酸胶体与联苯醚四甲酸分子进行充分胶连，形成立体网状结构，能充分将含有的金属离子束缚在该网状结构中，进而充分去除金属离子；再通过一步联苯醚四甲酸高温脱水、升华得到金属离子超痕量的高纯ODPA。

采用本申请提供的制备方法，联苯醚四甲酸经一次处理即可得到目标产物，产品收率高达95％左右，产品纯度达到99.95％以上，产品中金属离子的含量低于80ppb，且生产过程中基本无废水产生，工艺简单，有利于进行工业推广。

可选的，所述盐酸与所述联苯醚四甲酸的质量比为0.01～0.03:1。

通过优选的质量比，有利于促进联苯醚四甲酸均匀分散于溶剂中，并促进盐酸与硅酸钠充分反应得到硅酸胶体，避免硅酸钠过量而引入新杂质的风险，且保证该过程不会产生固废，也有利于剩余物料的回收利用。

可选的，所述溶剂为体积浓度为60％～70％的乙醇水溶液。

可选的，所述联苯醚四甲酸与所述溶剂的质量比为1:4.5～5.5。