[发明专利]一种基于能谱分析消除基体元素干扰的方法在审
| 申请号: | 202210873532.0 | 申请日: | 2022-07-22 |
| 公开(公告)号: | CN115356360A | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
| 发明(设计)人: | 张石凯;张广军;张庆桂;那娟娟;王涛;杨兴旺;朱勇;刘鑫 | 申请(专利权)人: | 中核四0四有限公司 |
| 主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223;G01N21/31 |
| 代理公司: | 核工业专利中心 11007 | 代理人: | 苏然 |
| 地址: | 732850 甘肃省*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 谱分析 消除 基体 元素 干扰 方法 | ||
1.一种基于能谱分析消除基体元素干扰的方法,其特征在于:令基体元素为A、待测元素为B、标样编号i=1,2,3,4,5,6,……;
包括以下步骤:
第一步:测量基体元素A的系列标准溶液,同时记录每一次测量时基体元素A的峰面积或峰高Si(A)以及待测元素B的峰面积或峰高Si(B);
第二步:根据第一步的测量结果建立Si(A)与Si(B)的关系式;
第三步:测量待测元素B的系列标准溶液,浓度依次为Ci(B);同时记录每一次测量时待测元素B的峰面积或峰高Si(B)1以及基体元素A的峰面积或峰高Si(A)1;
第四步:用第三步测得Si(A)1代入Si(A)与Si(B)关系式中的Si(A),同时用Si(B)1减去Si(A)与Si(B)关系式中的Si(B),得ΔSi(B);
ΔSi(B)为待测元素B扣除本底后的峰面积或峰高;
第五步:由第三步的Ci(B)与第四步的ΔSi(B)建立数学关系,即为消除基体元素A干扰后的、待测元素B的最终工作曲线。
2.如权利要求1所述的一种基于能谱分析消除基体元素干扰的方法,其特征在于:第二步中,Si(A)与Si(B)的关系式为:
Si(B)=k*Si(A)+b,
k、b为拟合常数。
3.如权利要求2所述的一种基于能谱分析消除基体元素干扰的方法,其特征在于:第四步中,ΔSi(B)=Si(B)1-Si(B)=Si(B)1-k*Si(A)1-b。
4.如权利要求3所述的一种基于能谱分析消除基体元素干扰的方法,其特征在于:第五步中,Ci(B)与ΔSi(B)的数学关系为:
Ci(B)=k1*ΔSi(B)+b1,k1、b1为拟合常数;
展开得:
Ci(B)=k1*[Si(B)1-k*Si(A)1-b]+b1
即为消除基体元素A干扰后的、待测元素B的最终工作曲线。
5.如权利要求1~4任一项所述的一种基于能谱分析消除基体元素干扰的方法,其特征在于:适用于测量目标要素受其他要素影响的情况。
6.如权利要求5所述的一种基于能谱分析消除基体元素干扰的方法,其特征在于:适用于X荧光法测量含钚料液中少量锆元素时钚基体对锆元素的影响、分光光度法测量钚价态时四价对六价的影响。
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