[发明专利]在温和水溶液环境下制备H-SiO2

权利要求书

1.一种在温和水溶液环境下制备H-SiO₂-VO₂涂层的方法，其特征在于，按照如下步骤制备：

（1）制备H-SiO₂胶体溶液，将PAA（聚丙烯酸）作为模板，再加入氨水、无水乙醇进行搅拌，待溶液充分搅拌溶解后加入正硅酸乙酯，持续搅拌之后密封储存备用； H-SiO₂凝胶的PAA用量为0.01-0.05g/50ml乙醇，H-SiO₂浓度为 0.015mol/L；氨水浓度为0.2mol/L，用量为1.5ml氨水/50ml乙醇；

（2）制备H-SiO₂涂层，用提拉镀膜机将石英片固定，并浸没在H-SiO₂溶液中，进行提拉，并在室温下进行固化，之后将表面浸有H-SiO₂的石英片放入马弗炉进行煅烧；在马弗炉中煅烧的温度为400°C，时间120min；

（3）制备H-SiO₂-VOSO₄涂层，称量VOSO₄溶于水中，待充分溶解后再加入与水等体积的无水乙醇进行搅拌，将上述经煅烧后的石英片浸入VOSO₄溶液中进行提拉镀膜，之后放入鼓风干燥箱中进行干燥；

（4）制备H-SiO₂-VO₂前驱体涂层，称量NH₄HCO₃溶于水中，NH₄HCO₃ 的浓度为0.2mol/L；将所得溶液倒入容器中，将H-SiO₂-VOSO₄涂层置于容器口上，将容器口进行密封，之后将此容器放于鼓风干燥箱中干燥， 待薄膜表面有明显白色痕迹时取出；

（5）热处理制备H-SiO₂-VO₂涂层，在惰性气体保护下，将所得薄膜放入管式炉内进行退火，退火参数：500°C、 60min，VO₂ 为M相。

2.根据权利要求1所述在温和水溶液环境下制备H-SiO₂-VO₂涂层的方法，其特征在于：步骤（3）中，VOSO₄的浓度为0.2mol/L。

3.根据权利要求 2所述在温和水溶液环境下制备H-SiO₂-VO₂涂层的方法，其特征在于：步骤（5）中，所述惰性气体为氩气。