[发明专利]一种真空氦漏孔校准方法

权利要求书

1.一种真空氦漏孔校准方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、先将(10^-10～10^-5)Pa﹒m³/s范围内不同数量级漏率的6N(N≥4)支标准漏孔接入氦质谱检漏仪，每个数量级上分布N支标准漏孔，且标准漏孔漏率值分别在各数量级上均匀分布；获取各标准漏孔对应的氦质谱检漏仪的示值；

S2、以氦质谱检漏仪示值x为横坐标，标准漏孔漏率值y为纵坐标，绘制出漏率拟合曲线，得到拟合公式y＝ax^b，完成氦质谱检漏仪在(10^-10～10^-5)Pa﹒m³/s量程范围内的校准；其中a、b为常数；

S3、然后将被校真空氦漏孔接入氦质谱检漏仪，将氦质谱检漏仪示值带入所述拟合公式得到被校漏孔漏率实际值，完成真空氦漏孔的校准。

2.如权利要求1所述的真空氦漏孔校准方法，其特征在于：步骤S1之前的准备工作：实验室温度为(23±5)℃，真空氦漏孔与氦质谱检漏仪处在同一环境下不低于24小时，校准过程中温度变化不超过±1℃；氦质谱检漏仪启动后根据说明书先预热设定时间，氦质谱检漏仪在使用前先通过内置漏孔或者外置漏孔对仪器进行自校。

3.如权利要求1所述的真空氦漏孔校准方法，其特征在于：

步骤S1中：

A、N取值为4，(10^-10～10^-5)Pa﹒m³/s每个数量级各准备4支标准漏孔，共24支漏孔，漏孔漏率值在各数量级满量程0.1、0.3、0.6、0.9倍附近的点上；按照漏率值由小到大的顺序，先将10^-10Pa﹒m³/s数量级的四支漏孔安装在氦质谱检漏仪四个对应位置(6、7、8、9)上；

B、关闭四个对应位置的阀门(2、3、4、5)，启动氦质谱检漏仪，测量氦质谱检漏仪的本底值，氦质谱检漏仪的本底值须小于1×10^-12Pa﹒m³/s；

C、待氦质谱检漏仪本底值小于1×10^-12Pa﹒m³/s时，打开第一阀门(2)，等氦质谱检漏仪显示值稳定时，记录氦质谱检漏仪显示值Q₁；

D、关闭第一阀门(2)，观察氦质谱检漏仪的本底值，待氦质谱检漏仪本底值小于1×10^-12Pa﹒m³/s时，打开第二阀门(3)，等氦质谱检漏仪显示值稳定时，记录氦质谱检漏仪显示值Q₂；重复此步骤D，记录其余两只漏孔的氦质谱检漏仪的示值Q₃和Q₄；

E、按漏率值从小到大的顺序，依次接入(10^-9～10^-5)Pa﹒m³/s各数量级的四支漏孔，重复步骤B、C、D，记录氦质谱检漏仪的示值Q₅-Q₂₄。

4.如权利要求3所述的真空氦漏孔校准方法，其特征在于：

步骤S2中：

F、以氦质谱检漏仪示值Q₁-Q₂₄为横坐标，标准漏孔漏率值为纵坐标绘制拟合曲线，得到拟合公式y＝ax^b。

5.如权利要求3所述的真空氦漏孔校准方法，其特征在于：

步骤S3中：

G、将被校漏孔接入检漏仪，关闭漏孔安装位置对应的阀门，观察氦质谱检漏仪的本底值，待氦质谱检漏仪本底值小于1×10^-12Pa﹒m³/s时，打开阀门，等氦质谱检漏仪显示值稳定时，记录氦质谱检漏仪显示值Q_{检漏仪示值}；

H、将氦质谱检漏仪显示值Q_{检漏仪示值}带入拟合公式，得到被校漏孔的实际值为