[发明专利]曝光装置和制造物品的方法

说明书

本公开涉及曝光装置和制造物品的方法。本发明提供了一种曝光装置，用于对基板中的多个拍摄区域中的每个拍摄区域执行扫描曝光，包括：载物台，被配置为保持基板；驱动器，被配置为驱动载物台；以及控制器，被配置为在根据驱动曲线来控制驱动器的同时控制对多个拍摄区域中的每个拍摄区域的扫描曝光，其中驱动曲线包括其中载物台在第一方向上以恒定加速度被驱动的第一区段、其中载物台在与第一方向相反的第二方向上以恒定加速度被驱动的第二区段，以及连接第一区段和第二区段的连接区段，并且其中执行扫描曝光的时段包括连接区段的至少一部分。

技术领域

本发明涉及曝光装置和制造物品的方法。

背景技术

作为在半导体器件等的制造过程中使用的光刻装置，已知一种曝光装置(所谓的扫描曝光装置)，其经由投影光学系统在相对扫描原件和基板的同时对基板进行曝光，从而将原件的图案转移到基板上。这种曝光装置一般在以恒定速度移动基板的同时执行基板的扫描曝光。但是，为了提高吞吐量(生产率)，期望在使基板加速和/或减速的同时执行基板的扫描曝光。日本专利No.5406861提出了一种技术，该技术在根据由正弦波形成的加速度曲线(profile)移动基板的同时，在基板的加速度和速度中的每一个作为正弦波改变的区段中对基板进行曝光。另外，日本专利公开No.2010-16166提出了一种在恒定加速度期间(即，在速度线性改变的区段中)对基板进行曝光的技术。

在日本专利No.5406861和日本专利公开No.2010-16166中的每一个中描述的基板的加速度曲线被应用于扫描曝光装置的情况下，可以在基板的扫描曝光期间降低基板的定位误差，但在诸如以更短时间执行扫描曝光之类的吞吐量方面仍有改善的余地。

发明内容

本发明例如提供了一种曝光装置，该曝光装置可以在扫描曝光期间在降低基板的定位误差的同时提高吞吐量。

根据本发明的一个方面，提供了一种曝光装置，用于对基板中的多个拍摄区域中的每个拍摄区域执行扫描曝光，包括：载物台，被配置为保持基板；驱动器，被配置为驱动载物台；以及控制器，被配置为在根据用于驱动载物台的驱动曲线来控制驱动器的同时控制对多个拍摄区域中的每个拍摄区域的扫描曝光，其中驱动曲线包括其中载物台在第一方向上以恒定加速度被驱动的第一恒定加速度区段、其中载物台在与第一方向相反的第二方向上以恒定加速度被驱动的第二恒定加速度区段，以及连接第一恒定加速度区段和第二恒定加速度区段使得载物台的加速度连续改变的连接区段，并且其中执行扫描曝光的时段包括连接区段的至少一部分。

本发明的其它特征将通过以下参考附图对示例性实施例的描述而变得清楚。

附图说明

图1是示出曝光装置的布置的示意图；

图2是示出基板载物台的移动的轨迹的示例的视图；

图3是示出第一实施例(示例1)的驱动曲线的视图；

图4是示意性地示出基板载物台和光源的控制系统的框图；

图5是示出最短时间驱动曲线的视图；

图6是示出连接区段的比率与载物台驱动时间之间的关系的视图；

图7是示出通过将示例1的驱动曲线与相关技术的驱动曲线重叠和比较而获得的结果的视图；

图8是示出第一实施例(示例2)的驱动曲线的视图；

图9是示出第一实施例(示例3)的驱动曲线的视图；

图10是示出第二实施例的驱动曲线的视图；以及

图11是示出相关技术的驱动曲线的视图。

具体实施方式