[发明专利]一种低真空下的聚合物薄膜复介电系数测量装置和方法

权利要求书

1.一种低真空下的聚合物薄膜复介电系数测量装置，其特征在于，包括：玻璃罩(1)和底座(10)，所述玻璃罩(1)的开口安装在底座(10)上，形成封闭式结构；

所述玻璃罩(1)内设有上电极(2)、下电极(3)、电极升降装置(4)和同轴电缆(6)，所述下电极(3)固定安装在底座(10)上，所述电极升降装置(4)的固定端安装在底座(10)上，驱动端连接所述上电极(2)，用于带动上电极(2)升降，从而远离或靠近下电极(3)；所述同轴电缆(6)的数量为多个，分为两条支路分别连接所述上电极(2)和下电极(3)，并分别接入设于底座(10)上的电桥接地端接口(15)和电桥高压端接口(14)；

所述底座(10)上还设有真空泵接口(12)和真空计接口(13)，所述真空泵接口(12)和真空计接口(13)均对应连接有设于底座(10)内的密封通路(16)，所述真空泵接口(12)和真空计接口(13)分别通过对应的密封通路(16)接入所述玻璃罩(1)的封闭空间内。

2.根据权利要求1所述的一种低真空下的聚合物薄膜复介电系数测量装置，其特征在于，所述上电极(2)为具有测量和屏蔽功能的电极，所述下电极(3)为高压电极，所述上电极(2)通过同轴电缆(6)连接至电桥接地端接口(15)，所述下电极(3)通过同轴电缆(6)连接至电桥高压端接口(14)。

3.根据权利要求1所述的一种低真空下的聚合物薄膜复介电系数测量装置，其特征在于，所述电极升降装置(4)为具有升降功能的涡轮涡杆结构，所述电极升降装置(4)的驱动端位于最低点时，所述上电极(2)和下电极(3)贴合。

4.根据权利要求1所述的一种低真空下的聚合物薄膜复介电系数测量装置，其特征在于，所述电极升降装置(4)还设有配合进行升降控制的减速箱，当所述电极升降装置(4)将所述上电极(2)下降至与所述下电极(3)接触后，还具有施加0-200N范围以内的压力的功能。

5.根据权利要求1所述的一种低真空下的聚合物薄膜复介电系数测量装置，其特征在于，所述电极升降装置(4)还设有双自由度调节结构(5)，所述电极升降装置(4)通过该双自由度调节结构(5)连接所述上电极(2)，所述双自由度调节结构(5)设有能够沿第一方向转动的圆柱形滑轮，该圆柱形滑轮的底面连接有能够沿第二方向转动的支架，所述下电极(3)固定在该支架上，所述第一方向垂直于所述第二方向。

6.根据权利要求5所述的一种低真空下的聚合物薄膜复介电系数测量装置，其特征在于，所述双自由度调节结构(5)具体包括连接支架、第一转轴、电极悬轴支架、第二转轴和固定件，所述连接支架的一端连接电极升降装置(4)，另一端可转动连接第一转轴，所述电极悬轴支架和第二转轴的数量均为多个，多个第二转轴分别固定在固定件的两侧，每个第二转轴均可转动固定在对应的电机悬轴支架上，多个电机悬轴支架均固定在所述第一转轴的一侧，所述上电极(2)固定在固定件上；

所述第一转轴用于带动所述上电极(2)沿第一方向转动，所述第二转轴用于带动所述上电极(2)沿第二方向转动。

7.根据权利要求1所述的一种低真空下的聚合物薄膜复介电系数测量装置，其特征在于，所述玻璃罩(1)内还设有支撑架(7)，该支撑架(7)的一端固定在所述底座(10)上，另一端固定连接至所述上电极(2)的同轴电缆(6)，用于使得连接至所述上电极(2)的同轴电缆(6)保持竖直向上状态。

8.根据权利要求1所述的一种低真空下的聚合物薄膜复介电系数测量装置，其特征在于，所述底座(10)的上表面还设有玻璃隔板(11)，所述下电极(3)和玻璃罩(1)均安装在所述玻璃隔板(11)上，所述聚合物薄膜复介电系数测量装置还包括O圈(9)，所述玻璃罩(1)的开口处边缘与该O圈(9)的大小相适配，所述玻璃隔板(11)还设有与所述O圈(9)的大小相适配的凹槽，所述O圈(9)嵌入该凹槽之中，所述玻璃罩(1)的开口处边缘与所述O圈(9)贴合。