[发明专利]一种薄膜表面微变形的观测方法

权利要求书

1.一种薄膜表面微变形的观测方法，其特征在于，在不透光的环境中，将点光源、圆形的凸透镜、平面形的薄膜、视窗依次间距排列，调整四者的相对位置使得点光源发射的光线经过凸透镜折射后穿过薄膜在视窗上形成圆形的光圈，在视窗背离薄膜的一侧观察有无暗影出现，如无，则薄膜表面无微变形；如有，则薄膜表面有微变形，通过测量和计算得到微变形的实际尺寸S₁；

点光源位于凸透镜的主光轴上，且点光源到凸透镜的距离小于凸透镜的一倍焦距；

薄膜和视窗与凸透镜的主光轴垂直且相交；

薄膜的厚度为300微米以下；

视窗为面向薄膜的一侧具有透光特性且背离薄膜的一侧具有成像特性的板；

点光源到凸透镜的距离为凸透镜的一倍焦距的50％～90％，薄膜到凸透镜的距离为凸透镜的一倍焦距的50％～150％，视窗到凸透镜的距离为凸透镜的一倍焦距的200％～400％；S₁的计算公式如下：

式中，D₂为凸透镜到视窗的距离，D₃为凸透镜的直径，D₁为凸透镜到薄膜的距离，D₄为光圈的直径，D₁～D₄的单位相同，S₂为暗影的尺寸。

2.根据权利要求1所述的一种薄膜表面微变形的观测方法，其特征在于，观察有无暗影出现前，调整点光源、凸透镜、视窗的相对位置使得视窗上光圈的面积达到最大，且光圈不超出视窗的区域。

3.根据权利要求2所述的一种薄膜表面微变形的观测方法，其特征在于，当视窗背离薄膜的一侧有暗影出现时，保持点光源、凸透镜、视窗的位置不变，不断地调整薄膜的位置，直至暗影的清晰程度达到最大。

4.根据权利要求1所述的一种薄膜表面微变形的观测方法，其特征在于，点光源的光照强度为100～1000lux。

5.根据权利要求1所述的一种薄膜表面微变形的观测方法，其特征在于，视窗为厚度为1mm且透光率为30％～70％的半透明白色磨砂亚克力板、PET扩散板或硫酸纸。

6.根据权利要求1所述的一种薄膜表面微变形的观测方法，其特征在于，暗影的尺寸S₂是通过菲林尺读取的。