[发明专利]高粗糙度表面喷涂涂层的膜厚检测方法

权利要求书

1.一种高粗糙度表面喷涂涂层的膜厚检测方法，其特征在于，包括以下步骤：

在待喷涂工件上设置测试片材，所述测试片材的表面粗糙度小于所述待喷涂工件的表面粗糙度；

采用涂料在所述待喷涂工件和所述测试片材上进行喷涂，干燥，在所述测试片材上形成第一干膜层，在所述待喷涂工件上形成第二干膜层；

检测所述第一干膜层的厚度；

通过式(一)计算所述第二干膜层的厚度；

D₂＝k×D₁ 式(一)

其中，D₁为所述第一干膜层的厚度，D₂为所述第二干膜层的厚度，k为折算系数；

k是通过以下方法获得：

取第一测试件和第二测试件，所述第一测试件的表面粗糙度与所述测试片材的表面粗糙度相同，所述第二测试件的表面粗糙度与所述待喷涂工件的表面粗糙度相同；

采用所述涂料在所述第一测试件和所述第二测试件上进行喷涂，干燥，在所述第一测试件上形成第三干膜层，在所述第二测试件上形成第四干膜层；

检测所述第三干膜层的厚度；

获取所述第四干膜层的面积以及重量，获取所述涂料的干膜比重，通过式(二)计算所述第四干膜层的厚度；

D₄＝M/(Q×S) 式(二)

其中，D₄为所述第四干膜层的厚度，M为所述第四干膜层的重量，S为所述第四干膜层的面积，Q为所述涂料的干膜比重；

通过式(三)计算k；

K＝D₄/D₃ 式(三)

其中，D₃为所述第三干膜层的厚度。

2.如权利要求1所述的高粗糙度表面喷涂涂层的膜厚检测方法，其特征在于，所述测试片材的表面粗糙度不大于2μm。

3.如权利要求2所述的高粗糙度表面喷涂涂层的膜厚检测方法，其特征在于，所述测试片材的表面粗糙度为0.1μm～2μm。

4.如权利要求1所述的高粗糙度表面喷涂涂层的膜厚检测方法，其特征在于，所述待喷涂工件的表面粗糙度为8μm～50μm。

5.如权利要求1所述的高粗糙度表面喷涂涂层的膜厚检测方法，其特征在于，所述待喷涂工件为铸铁件。

6.如权利要求1所述的高粗糙度表面喷涂涂层的膜厚检测方法，其特征在于，所述测试片材为钢铁件。

7.如权利要求1所述的高粗糙度表面喷涂涂层的膜厚检测方法，其特征在于，所述测试片材为磁性片材，所述测试片材通过磁力吸附在所述待喷涂工件上。

8.如权利要求1所述的高粗糙度表面喷涂涂层的膜厚检测方法，其特征在于，在所述待喷涂工件的多个区域上分别贴附不同的所述测试片材，所述第一干膜层的厚度取平均值。

9.如权利要求1所述的高粗糙度表面喷涂涂层的膜厚检测方法，其特征在于，所述第一测试件和/或所述第二测试件为片状结构。

10.如权利要求1～9中任一项所述的高粗糙度表面喷涂涂层的膜厚检测方法，其特征在于，获取所述第四干膜层的重量的方法是：

分别称量所述第二测试件在形成所述第四干膜层前后的重量，重量的变化值即为所述第四干膜层的重量。