[发明专利]在基材上形成Pd-Au合金层的方法在审
| 申请号： | 202210703856.X | 申请日： | 2017-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN115069093A | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | M·兰利;D·维亚诺;M·多兰 | 申请（专利权）人： | 联邦科学和工业研究组织 |
| 主分类号： | B01D63/12 | 分类号： | B01D63/12;B01D69/02;B01D69/04;B01D67/00;B01D53/22;C22C27/02;C25D3/56;C25D5/34;C25D5/38;C25D7/04;B08B3/08;B08B3/12 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 解延雷;庞东成 |
| 地址： | 澳大利亚首*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基材 形成 pd au 合金 方法 | ||
1.一种钯-金合金涂覆的钒或钒合金气体分离膜，其包括厚度为100纳米至5微米且组成为Pd60Au40至Pd95Au5的钯-金合金涂层。
2.如权利要求1所述的钯-金合金涂覆的钒或钒合金气体分离膜，其中，所述钯-金合金涂层形成亮度小于50的涂覆层，所述亮度使用Konica Minolta CR-400 Chroma Meter或HunterLab MiniScan EZ测量。
3.如权利要求1所述的钯-金合金涂覆的钒或钒合金气体分离膜，其中，沉积的所述钯-金合金具有至少99.9％的纯度。
4.如权利要求1所述的钯-金合金涂覆的钒或钒合金气体分离膜，其中，所述钯-金合金层具有球根状和/或花椰菜状的形态。
5.如权利要求1所述的钯-金合金涂覆的钒或钒合金气体分离膜，其中，所述钯-金合金涂层的厚度为100纳米至1微米。
6.如权利要求1所述的钯-金合金涂覆的钒或钒合金气体分离膜，其中，所述钯-金合金涂层的组成为Pd70Au30至Pd90Au10，以原子％计。
7.如权利要求1所述的钯-金合金涂覆的钒或钒合金气体分离膜，其中，所述Pd-Au合金涂层具有根据ASTM D3359-97的5A分类。
8.如权利要求1所述的钯-金合金涂覆的钒或钒合金气体分离膜，其在325℃～350℃的温度下的氢渗透性为1×10-7mol/m/s/Pa0.5～5×10-7mol/m/s/Pa0.5。
9.如权利要求1所述的钯-金合金涂覆的钒或钒合金气体分离膜，其在325℃～350℃的温度下的20ppm H2S中的稳态H2渗透性为1×10-8mol/m/s/Pa0.5～50×10-8mol/m/s/Pa0.5。
10.如权利要求1所述的钯-金合金涂覆的钒或钒合金气体分离膜，其包括管状气体分离膜。
11.如权利要求1所述的钯-金合金涂覆的钒或钒合金气体分离膜，其包括管状气体分离膜，所述管状气体分离膜包括外径为2mm～25mm的管。
12.一种气体分离膜，其包含权利要求1～11中任一项所述的钯-金合金涂覆的钒或钒合金气体分离膜。
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