[发明专利]水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备及使用方法

说明书

本发明公开了水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备及使用方法，涉及涂料加工设备技术领域。包括反应釜组件，锁紧机构以及定位机构，所述反应釜组件包括反应釜主体、支撑板以及底板，所述反应釜主体的两侧通过活动轴连接有支撑板。通过设置反应釜组件，锁紧机构以及定位机构，相较于常规反应釜的清理方式，该装置通过锁紧机构以及定位机构将反应釜主体翻转，降低反应釜主体的整体高度，无需工作人员爬高下低，清理过程更加安全，同时不采用自动清理结构，降低了反应釜主体内壁被刮伤的风险，同时降低了制造成本，采用人工目视清理，清理效果更佳，保证了反应釜主体内部的产品生产质量，符合经济效益，应用前景广阔。

技术领域

本发明涉及涂料加工设备技术领域，具体为水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备及使用方法。

背景技术

水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层，采用水性UV光油固化工艺，将原料涂覆后，采用UV光固化技术，使得涂料在物面上形成一层薄薄的纳米级防护层，纳米级涂层，指纳米无毒涂层的先进工艺，科技含量高的纳米涂层技术，纳米抗菌防护涂层，是在纳米涂层基础上的改善.主要特点起到了抗菌保护作用。

现有技术中，水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的原料反应釜技术较为承受，可以进行加热、冷却和搅拌，但是其结构固定，使得加工结束后的清理过程难度较大，尤其是对体积较大的反应釜来说，需要工作人员不停的爬高下低，过程缓慢且有一定的危险性，一些具有自动清洗结构的反应釜，清理有死角，洁净效果差且容易刮伤反应釜的内壁涂层，导致反应釜需要返厂维修，造成严重经济损失，已无法满足使用需求。

发明内容

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备及使用方法，包括反应釜组件，锁紧机构以及定位机构，所述反应釜组件包括反应釜主体、支撑板以及底板，所述反应釜主体的两侧通过活动轴连接有支撑板，所述反应釜主体的两侧设置有一端穿设于支撑板内部且位于活动轴上方的定位轴；

所述锁紧机构包括设置于支撑板上的电动推杆一以及电动推杆二，所述电动推杆一的输出端上设置有U形定位夹，所述U形定位夹的内部与定位轴的表面活动套接，所述U形定位架内壁的两侧均设置有夹板，所述U形定位夹的两侧均设置有螺杆，两个所述螺杆分别用于驱动两个夹板，以实现所述夹板对定位轴的夹持，所述电动推杆二的输出端上设置有与螺杆传动连接的齿杆；

所述定位机构包括设置于底板底部的减速电机以及设置于支撑板一侧的弧形阻尼板，所述减速电机的输出端设置有一端贯穿底板延伸至其中一个支撑板内部并与定位轴表面相连接的钢丝绳，所述弧形阻尼板的内部设置有数量不少于一个的定位销组件。

作为本发明的一种优选技术方案，所述支撑板的底部与底板的顶部固定连接，所述底板的底部设置有支撑腿，所述底板呈L形设置，所述底板的顶部开设有操作槽，所述操作槽的内部设置有用于承接清洗产生的废水的废水收集槽，所述底板的顶部位于反应釜主体的底部开设有排料槽且排料槽内壁的一侧开设有周转口，用于容纳所述反应釜主体底部的排料管。

作为本发明的一种优选技术方案，所述锁紧机构还包括有开设于支撑板一侧且数量不少于两个的限位支撑槽，所述U形定位架包括设置于两个支撑限位槽内部的侧板以及设置于两个侧板之间的固定板，所述侧板的一端延伸至支撑限位槽的外部。

作为本发明的一种优选技术方案，两个所述侧板的相对面均开设有活动腔，所述夹板设置于活动腔的内部，所述活动腔的内部设置有稳定杆且稳定杆的表面活动设置有稳定筒，所述稳定筒的一端与夹板的一侧固定连接，所述活动腔内壁的一侧与夹板之间设置有弹簧。

作为本发明的一种优选技术方案，所述电动推杆二的输出端设置有活动杆，所述齿杆的一端固定安装于活动杆上，所述活动杆上的齿杆数量不少于两个，所述螺杆设置于侧板的内部并与侧板螺纹连接，所述螺杆的一端延伸至侧板的外部并设置有齿轴，所述螺杆的另一端与夹板的一侧相抵触，所述齿杆的一侧设置有与齿轴相啮合的卡齿。