[发明专利]水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备及使用方法

权利要求书

1.水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备，包括反应釜组件(1)，锁紧机构(2)以及定位机构(3)，其特征在于：所述反应釜组件(1)包括反应釜主体(11)、支撑板(14)以及底板(15)，所述反应釜主体(11)的两侧通过活动轴(12)连接有支撑板(14)，所述反应釜主体(11)的两侧设置有一端穿设于支撑板(14)内部且位于活动轴(12)上方的定位轴(13)；

所述锁紧机构(2)包括设置于支撑板(14)上的电动推杆一(21)以及电动推杆二(22)，所述电动推杆一(21)的输出端上设置有U形定位夹(24)，所述U形定位夹(24)的内部与定位轴(13)的表面活动套接，所述U形定位架内壁的两侧均设置有夹板(29)，所述U形定位夹(24)的两侧均设置有螺杆(261)，两个所述螺杆(261)分别用于驱动两个夹板(29)，以实现所述夹板(29)对定位轴(13)的夹持，所述电动推杆二(22)的输出端上设置有与螺杆(261)传动连接的齿杆(27)；

所述定位机构(3)包括设置于底板(15)底部的减速电机(31)以及设置于支撑板(14)一侧的弧形阻尼板(33)，所述减速电机(31)的输出端设置有一端贯穿底板(15)延伸至其中一个支撑板(14)内部并与定位轴(13)表面相连接的钢丝绳(32)，所述弧形阻尼板(33)的内部设置有数量不少于一个的定位销组件(35)。

2.根据权利要求1所述的水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备，其特征在于：所述支撑板(14)的底部与底板(15)的顶部固定连接，所述底板(15)的底部设置有支撑腿(18)，所述底板(15)呈L形设置，所述底板(15)的顶部开设有操作槽(16)，所述操作槽(16)的内部设置有用于承接清洗产生的废水的废水收集槽(17)，所述底板(15)的顶部位于反应釜主体(11)的底部开设有排料槽且排料槽内壁的一侧开设有周转口，用于容纳所述反应釜主体(11)底部的排料管。

3.根据权利要求1所述的水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备，其特征在于：所述锁紧机构(2)还包括有开设于支撑板(14)一侧且数量不少于两个的限位支撑槽(23)，所述U形定位架包括设置于两个支撑限位槽内部的侧板(241)以及设置于两个侧板(241)之间的固定板(242)，所述侧板(241)的一端延伸至支撑限位槽的外部。

4.根据权利要求3所述的水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备，其特征在于：两个所述侧板(241)的相对面均开设有活动腔(28)，所述夹板(29)设置于活动腔(28)的内部，所述活动腔(28)的内部设置有稳定杆(281)且稳定杆(281)的表面活动设置有稳定筒(282)，所述稳定筒(282)的一端与夹板(29)的一侧固定连接，所述活动腔(28)内壁的一侧与夹板(29)之间设置有弹簧(283)。

5.根据权利要求1所述的水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备，其特征在于：所述电动推杆二(22)的输出端设置有活动杆(221)，所述齿杆(27)的一端固定安装于活动杆(221)上，所述活动杆(221)上的齿杆(27)数量不少于两个，所述螺杆(261)设置于侧板(241)的内部并与侧板(241)螺纹连接，所述螺杆(261)的一端延伸至侧板(241)的外部并设置有齿轴(26)，所述螺杆(261)的另一端与夹板(29)的一侧相抵触，所述齿杆(27)的一侧设置有与齿轴(26)相啮合的卡齿。

6.根据权利要求1所述的水性UV光固化抗菌耐磨纳米涂层的反应设备，其特征在于：所述支撑板(14)的内部开设有滑槽(141)，所述定位轴(13)远离反应釜主体(11)的一端延伸至滑槽(141)的内部，所述弧形阻尼板(33)的内部开设有与滑槽(141)相连通的弧形限位孔(34)，所述弧形限位孔(34)内壁的两侧均开设有数量不少于一个的圆槽(341)，所述支撑板(14)的一侧设置有一端与定位轴(13)相抵触的压簧(142)。