[发明专利]表面清洁设备在审
申请号: | 202210658188.3 | 申请日: | 2022-06-10 |
公开(公告)号: | CN114869182A | 公开(公告)日: | 2022-08-09 |
发明(设计)人: | 郑悦;刘煜;唐成;段飞 | 申请(专利权)人: | 北京顺造科技有限公司 |
主分类号: | A47L11/30 | 分类号: | A47L11/30;A47L11/40 |
代理公司: | 北京庚致知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11807 | 代理人: | 李晓辉 |
地址: | 100085 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 清洁 设备 | ||
1.一种表面清洁设备,其特征在于,包括:
第一清洁介质存储器,所述第一清洁介质存储器用于存储第一清洁介质;
第二清洁介质存储器,所述第二清洁介质存储器用于存储第二清洁介质;
清洁基部,所述清洁基部用于接触周围环境,并且至少能够基于所述第一清洁介质存储器所提供的第一清洁介质和/或第二清洁介质存储器所提供的第二清洁介质对周围环境的待清洁表面进行清洁操作;
回收存储部,所述回收存储部用于回收和存储清洁待清洁表面后的废液;
抽吸装置,所述抽吸装置与所述回收存储部及所述清洁基部流体连通,且能够产生抽吸气流,所述回收存储部用于存储基于所述抽吸气流从所述待清洁表面回收的废液;
动力源装置,所述动力源装置至少为所述抽吸装置提供动力;
流体分配系统,包括清洁介质输出口;其中,所述第一清洁介质存储器将其存储的第一清洁介质通过流体分配系统以液体的形式施加至清洁基部和/或施加至清洁基部的附近的待清洁表面;所述第二清洁介质存储器将其存储的第二清洁介质通过流体分配系统以泡沫的形式施加至清洁基部和/或施加至清洁基部附近的待清洁表面;以及
控制器,所述控制器控制所述流体分配系统,以选择性地向清洁基部和/或清洁基部附近的待清洁表面提供第一清洁介质和/或第二清洁介质,以便表面清洁设备工作在液体清洁模式和/或泡沫清洁模式;
其中,所述清洁介质输出口包括位于清洁基部的搅动器上的至少一个泡沫出口,以及位于清洁基部的搅动器上或者靠近搅动器设置的至少一个液体出口,以便所述第一清洁介质存储器所存储的第一清洁介质从所述液体出口排出,所述第二清洁介质存储器所存储的第二清洁介质从泡沫出口排出。
2.如权利要求1所述的表面清洁设备,其特征在于,所述泡沫出口与所述液体出口共用一个清洁基部的搅动器上的出口。
3.如权利要求1所述的表面清洁设备,其特征在于,所述泡沫出口与所述液体出口在搅动器上的位置不同。
4.如权利要求1所述的表面清洁设备,其特征在于,在所述搅动器的轴向和/或周向上,所述泡沫出口和液体出口之间间隔设置。
5.如权利要求1所述的表面清洁设备,其特征在于,所述流体分配系统包括第一泵组件和第二泵组件,所述第一泵组件位于所述液体出口和第一清洁介质存储器之间,所述第二泵组件位于该泡沫出口和第二清洁介质存储器之间。
6.如权利要求5所述的表面清洁设备,其特征在于,所述控制器用于控制所述第一泵组件的开启和关闭,以及用于控制所述第二泵组件的开启和关闭。
7.如权利要求6所述的表面清洁设备,其特征在于,所述控制器控制所述第一泵组件和第二泵组件,以使得所述第一泵组件和第二泵组件不同时开启。
8.如权利要求5所述的表面清洁设备,其特征在于,所述第一泵组件和/或第二泵组件位于所述表面清洁设备的主体部或者清洁基部。
9.如权利要求5所述的表面清洁设备,其特征在于,所述流体分配系统还包括电磁阀,所述电磁阀设置于所述第一泵组件与液体出口之间的连接管路,并且通过控制电磁阀的开关实现液体的输出和关闭。
10.如权利要求1-9中任一项所述的表面清洁设备,其特征在于,所述第二泵组件包括:清洁剂泵和泡沫发生器,其中,所述清洁剂泵连接于第二清洁介质存储器,用于将第二清洁介质存储器内所存储的第二清洁介质输入至泡沫发生器,所述泡沫发生器用于接收所述第二清洁介质,并且在所述泡沫发生器内,通过扰动第二清洁介质的方式形成泡沫,并且经过泡沫发生器的出口输出泡沫;
可选地,所述第一泵组件还用于向泡沫发生器提供第一清洁介质;
可选地,在所述泡沫发生器内,所述第一清洁介质和第二清洁介质的体积比为1000:1至100:1;
可选地,还包括:
发泡操作机构,通过触发所述发泡操作机构切换液体清洁模式和泡沫清洁模式;
可选地,所述第二清洁介质存储器设置于表面清洁设备的主体部或者清洁基部;
可选地,所述回收存储部包括污水箱,所述污水箱内设置有液位检测装置,所述液位检测装置用于检测所述污水箱内的液体的液面位置;
可选地,所述液位检测装置包括浮子,所述浮子漂浮于所述污水箱的液体,并根据所述浮子的位置获得污水箱的液体的液面位置。
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