[发明专利]一种聚酰亚胺/环氧树脂模塑料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202210657129.4 申请日: 2022-06-10
公开(公告)号: CN114806083A 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 李陶琦;蔡阿丽;聂麒曌;周雨薇 申请(专利权)人: 大同共聚(西安)科技有限公司
主分类号: C08L63/00 分类号: C08L63/00;C08L13/00;C08L23/06;C08K9/06;C08K3/38;C08K3/36;C08K3/26;C08G59/50
代理公司: 西安维赛恩专利代理事务所(普通合伙) 61257 代理人: 刘艳霞
地址: 710075 陕西省西安市高新区科*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 聚酰亚胺 环氧树脂 塑料 及其 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种聚酰亚胺/环氧树脂模塑料及其制备方法,由环氧树脂、聚酰亚胺四酸二酐、无机助剂、偶联剂、增韧剂、离子捕捉剂和脱模剂制备而成,其中:环氧树脂为双酚A环氧树脂和线性酚醛环氧树脂;聚酰亚胺四酸二酐的用量为环氧树脂质量的1.26~1.72倍;无机助剂用量为所述环氧树脂和聚酰亚胺四酸二酐质量之和的80%。采用该方法制备的聚酰亚胺/环氧树脂模塑料,提高了模塑料的玻璃化转变温度、降低模塑料的熔体粘度。

技术领域

本发明属于微电子封装技术领域,具体涉及一种聚酰亚胺/环氧树脂模塑料及其制备方法。

背景技术

随着微电子技术以及集成电路封装技术的发展,环氧塑封料(EMC)作为电子封装关键材料,得到了快速的发展。目前,环氧塑封料以其高可靠性、低成本、生产工艺简单、适合大规模自动化生产等特点,占据了整个微电子封装材料97%以上的市场,广泛应用于半导体器件、集成电路、消费电子、汽车、军事、航空等各个封装领域,环氧塑封料已成为集成电路工业发展的重要支柱之一。

但是,随着集成电路快速发展,对环氧塑封料提出了越来越高的要求。从集成电路封装可靠性,成型性出发,要求环氧塑封料向着高粘接性能、高耐浸焊、低应力、低膨胀、高耐热与低熔体黏度能好等方向发展。由于环氧树脂性能的局限性,这些要求是现有的环氧塑封料难以全部满足的,特别是高耐热与低熔体黏度,反映在玻璃化温度不高、可熔体粘度高,影响了集成电路的封装成型性和可靠性。

发明内容

本发明的目的是提供一种聚酰亚胺/环氧树脂模塑料及其制备方法,提高了模塑料的玻璃化转变温度、降低模塑料的熔体粘度。

本发明采用以下技术方案:一种聚酰亚胺/环氧树脂模塑料,由环氧树脂、聚酰亚胺四酸二酐、无机助剂、偶联剂、增韧剂、离子捕捉剂和脱模剂制备而成,其中:环氧树脂为双酚A环氧树脂和线性酚醛环氧树脂;聚酰亚胺四酸二酐的用量为环氧树脂质量的1.26~1.72倍。

进一步地,该双酚A环氧树脂和线性酚醛环氧树脂的质量比为1:1,且所述双酚A环氧树脂和线性酚醛环氧树脂环氧当量分别为165~180g/eq和 230~250g/eq。

进一步地,该双酚A环氧树脂和线性酚醛环氧树脂环氧当量分别为165g/eq 和250g/eq。

进一步地,该聚酰亚胺四酸二酸酐结构式如下:

其中:n=0~1。

进一步地,n=1,且所述聚酰亚胺四酸二酸酐的用量为环氧树脂质量的1.72 倍。

进一步地,该无机助剂为:质量比为2:8的氮化硼和二氧化硅;且用量为所述环氧树脂和聚酰亚胺四酸二酐质量之和的80%。

进一步地,氮化硼和二氧化硅同时满足如下条件:

所述氮化硼的组成质量百分数为:粒径0.2~2μm为20%,粒径10~20μm 为80%;所述二氧化硅的组成质量百分数:粒径0.2~2μm为20%,粒径10~20 μm为80%。

进一步地偶联剂为γ-4三甲氧基硅烷缩水甘油醚氧丙基硅烷。

进一步地,增韧剂为端羧基丁腈橡胶,其分子量分布于200~1000,用量为环氧树脂质量的10~20%;

该离子捕捉剂为粒径1~3μm的水滑石,用量为环氧树脂质量的1%;

该脱模剂为分子量500~1000的聚乙烯蜡,用量为模塑料总质量的1%。

本发明公开了上述的一种聚酰亚胺/环氧树脂模塑料的制备方法,制备方法如下:

步骤一、称取上述各原料,室温下,将所述无机助剂用偶联剂γ-4三甲氧基硅烷缩水甘油醚氧丙基硅烷浸渍,浸渍后滤干;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大同共聚(西安)科技有限公司,未经大同共聚(西安)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210657129.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top