[发明专利]碳素棒表面处理用弹射式间歇上料装置及其使用方法

权利要求书

1.碳素棒表面处理用弹射式间歇上料装置，包括底板（1）、设置在所述底板（1）上方的料箱（14）、位于所述料箱（14）下方且沿左右方向水平分布的转轴（2）、设置在所述底板（1）左侧且与所述转轴（2）中线重合的驱动电机（3）、设置在所述底板（1）右侧的处理台（15）；

所述驱动电机（3）同轴连接有摆杆（4），所述摆杆（4）上连接有凸杆（7）；

所述转轴（2）上同轴固定连接有圆柱（6），所述转轴（2）的左端部同轴固定连接有槽轮（5），所述凸杆（7）与所述槽轮（5）配合连接；

所述圆柱（6）的外表面上沿圆周方向均布有六个燕尾滑槽（6a），六个燕尾滑槽（6a）沿轴线方向设置，位于正上方的燕尾滑槽（6a）与所述料箱（14）位置相对应，位于正下方的燕尾滑槽（6a）与所述处理台（15）位置相对应，六个燕尾滑槽（6a）内对应设有六个滑杆（8），六个滑杆（8）上对应滑动安装有六个撞击销（9）；

所述圆柱（6）的左侧设有环形轨迹板（10）、中部设有弧形轨迹板（11）、右侧设有环形限位板（12），六个滑杆（8）与所述环形轨迹板（10）对应配合，六个撞击销（9）与所述弧形轨迹板（11）对应配合。

2.如权利要求1所述的碳素棒表面处理用弹射式间歇上料装置，其特征在于：所述槽轮（5）为六分度槽轮。

3.如权利要求1所述的碳素棒表面处理用弹射式间歇上料装置，其特征在于：每个滑杆（8）的左端部上均设有一个凸块（81），所述凸块（81）与所述环形轨迹板（10）的侧壁抵合。

4.如权利要求3所述的碳素棒表面处理用弹射式间歇上料装置，其特征在于：所述环形轨迹板（10）包括直环轨迹部和弯曲轨迹部，所述直环轨迹部所对应的圆心角为120°，所述弯曲轨迹部所对应的圆心角为240°。

5.如权利要求4所述的碳素棒表面处理用弹射式间歇上料装置，其特征在于：所述弯曲轨迹部向右侧倾斜弯曲。

6.如权利要求1所述的碳素棒表面处理用弹射式间歇上料装置，其特征在于：所述弧形轨迹板（11）所对应的圆心角为60°。

7.如权利要求1所述的碳素棒表面处理用弹射式间歇上料装置，其特征在于：六个滑杆（8）与六个撞击销（9）之间对应连接有六个压缩弹簧（13）。

8.碳素棒表面处理用弹射式间歇上料装置的使用方法，其特征在于：应用权利要求1至7中任一项所述的碳素棒表面处理用弹射式间歇上料装置，具体步骤如下：

（一）使用时，驱动电机（3）通过摆杆（4）及凸杆（7）带动槽轮（5）顺时针间歇转动，在槽轮（5）停歇的过程中，碳素棒从料箱（14）底部的出料口掉落至正上方的燕尾滑槽（6a）内；

（二）槽轮（5）带动圆柱（6）顺时针转动的过程中，滑杆（8）左端部上的凸块（81）先与环形轨迹板（10）抵合，使得滑杆（8）随着圆柱（6）顺时针转动的同时其端部上的凸块（81）还沿着环形轨迹板（10）的侧壁往右侧滑动，使得滑杆（8）推动碳素棒往右侧移动；

（三）在凸块（81）与环形轨迹板（10）抵合滑动的过程中，撞击销（9）与弧形轨迹板（11）的侧壁抵合，阻止撞击销（9）往右侧滑动，使得在撞击销（9）不动，滑杆（8）继续往右侧移动的情况下，两者之间的压缩弹簧（13）被挤压；

（四）当滑杆（8）和撞击销（9）随着圆柱（6）旋转至最下方时，撞击销（9）与弧形轨迹板（11）脱离限位，压缩弹簧（13）恢复原状，撞击销（9）在压缩弹簧（13）的弹力作用力下将碳素棒从燕尾滑槽（6a）内顶出，将碳素棒弹射至与正下方的燕尾滑槽（6a）相对应的处理台（15）上，使碳素棒进行表面处理工序。