[发明专利]隔离膜、隔离膜制备方法及电化学装置在审
| 申请号： | 202210631790.8 | 申请日： | 2022-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN114709562A | 公开（公告）日： | 2022-07-05 |
| 发明（设计）人： | 房坦;陈红辉;陈立新;邱兴富 | 申请（专利权）人： | 中材锂膜（宁乡）有限公司 |
| 主分类号： | H01M50/446 | 分类号： | H01M50/446;H01M50/403;H01M50/451;H01M50/457;H01M50/489;H01M50/491;H01M10/42 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 程晓 |
| 地址： | 410600 湖南省长沙市宁*** | 国省代码： | 湖南;43 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 隔离 制备 方法 电化学 装置 | ||
1.一种隔离膜，其特征在于，包括：
基膜；
第一涂覆层，涂覆于所述基膜厚度方向上的至少一侧，采用无机氧化物及耐温高分子树脂材料；
第二涂覆层，涂覆于所述第一涂覆层上远离所述基膜的一侧，采用无机氧化物和耐温高分子树脂材料；
其中，所述第一涂覆层中的所述耐温高分子树脂，按质量计，占比为30wt%至45wt%；所述第二涂覆层中的所述耐温高分子树脂，按质量计，占比为55wt%至70wt%；
所述第一涂覆层中耐温高分子树脂材料的熔点高于所述第二涂覆层中耐温高分子树脂材料的熔点；
所述第一涂覆层、第二涂覆层中无机氧化物的平均粒径D50分别为第一粒径、第二粒径，所述第一粒径大于所述第二粒径。
2.根据权利要求1所述的隔离膜，其特征在于，所述第一粒径为25 nm至65nm，所述第二粒径为20 nm至60nm。
3.根据权利要求1所述的隔离膜，其特征在于，所述第一粒径与第二粒径的差值为3nn至10nm。
4.根据权利要求1所述的隔离膜，其特征在于，所述第一涂覆层中无机氧化物，按质量计，占比为55wt%至70wt%，所述第二涂覆层中无机氧化物，按质量计，占比为30wt%至45wt%。
5.根据权利要求1所述的隔离膜，其特征在于，所述第一涂覆层的厚度为 0.5μm至1.5μm，所述第二涂覆层的厚度为1μm 至2μm。
6.根据权利要求1所述的隔离膜，其特征在于，所述第一涂覆层及第二涂覆层中的所述无机氧化物呈球形或类球形。
7.根据权利要求1-6任一项所述的隔离膜，其特征在于，所述无机氧化物采用氧化铝及氧化钛中的至少一种。
8.根据权利要求1所述的隔离膜，其特征在于，所述基膜采用聚乙烯、聚丙烯及聚酰亚胺中的至少一种。
9.根据权利要求1所述的隔离膜，其特征在于，所述耐温高分子树脂采用聚乙烯、聚丙烯及聚氯乙烯中的至少一种。
10.根据权利要求1所述的隔离膜，其特征在于，所述第二涂覆层和所述第一涂覆层中的所述耐温高分子树脂采用的材料不同。
11.一种如权利要求1所述的隔离膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供基膜；
在所述基膜上的至少一侧，涂覆第一涂覆层；
在所述第一涂覆层上远离所述基膜的一侧涂覆第二涂覆层；
烘干定型。
12.一种电化学装置，其特征在于，包括如权利要求1-10任一项所述的隔离膜。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中材锂膜（宁乡）有限公司，未经中材锂膜（宁乡）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210631790.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种内定位式密封编码器及鼠标
- 下一篇：一种视频的播放方法和装置
