[发明专利]OPC模型数据权重设置方法

说明书

本发明公开了一种OPC模型数据权重设置方法，包括：步骤一、对版图上的图形进行分类并设置各类所述图形的参考权重；步骤二、设置OPC模型中各数据点的权重，包括：计算第一系数，第一系数为和数据点的图形线宽尺寸相关的系数；计算第二系数，第二系数为和数据点的图形的测量尺寸可靠度相关的系数；计算数据点的权重，数据点的权重为数据点的图形所属的图形类别的参考权重、第一系数和第二系数的乘积。本发明能有效地降低模型误差和均方根数值，提高OPC模型精度。

技术领域

本发明涉及一种半导体集成电路制造方法，特别是涉及一种光学临近效应修正(Optical Proximity Correction,OPC)模型数据权重设置方法。

背景技术

基于模型的OPC修正方法在分辨率增强技术领域起着非常重要的作用。OPC工具可以通过移动版图图形边缘(moving mask edges)来降低边缘位置误差(EPE)。因此，掩模板(mask)修正结果很大程度上取决于OPC模型精度。OPC模型作为众多OPC工具中的一种，其实它是具有半经验性，除去很多物理和光学参数，晶圆数据对建模和校准模型来说是非常关键的。从某种程度上来说，OPC模型建立和校准过程其实是在调整模型数据权重，而权重调整常受建模工程师经验影响。

如图1所示，是现有采用基于模型进行OPC修正的示意图；首先、提供目标(target)版图101，目标版图101为根据设计要求形成的设计版图，目标版图101上具有图形105a，最终形成于晶圆上的晶圆图形需要和图形105a接近。

其次、需要提供OPC模型102。OPC模型102能完整的描述包括光学系统、掩模板、光刻胶和刻蚀工艺在内的整个光刻过程，包括光学模型和光刻胶光化学反应模型。通常，OPC修正中使用的OPC模型102为半经验的简化光刻模型。

再次、结合OPC模型102和所述目标版图101进行标记103所示的OPC修正得到掩模板版图104。掩模板版图104上的图形105b在图形105a的基础上做了调整，使得光刻工艺后转移到晶圆上的图形和目标图形105a接近。

为了提升OPC修正的精度，需要对OPC模型102进行校准以及进行验证。通常，对OPC模型102进行校准的过程主要是对OPC模型102中的各数据点的权重进行调整的过程。OPC模型102的各数据点记录了对应的图形数据，在OPC修正中，当图形需要进行调整时，则按照权重设定的大小进行调整，使不同数据点对应的图形的调整大小不一样，并使各数据点对应的图形的EPE都得到减少。现有方法中，权重调整常受建模工程师经验影响，这会影响OPC模型的精度。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种OPC模型数据权重设置方法，能有效地降低模型误差和均方根数值，提高OPC模型精度。

为解决上述技术问题，本发明提供的OPC模型数据权重设置方法包括如下步骤：

步骤一、对版图上的图形进行分类并设置各类所述图形的参考权重；

步骤二、设置OPC模型中各数据点的权重，包括：

计算第一系数，所述第一系数为和所述数据点的图形线宽尺寸相关的系数；

计算第二系数，所述第二系数为和所述数据点的图形的测量尺寸可靠度相关的系数；

计算所述数据点的权重，所述数据点的权重为所述数据点的图形所属的图形类别的所述参考权重、所述数据点的第一系数和所述数据点的第二系数的乘积。

进一步的改进是，步骤一中，所述图形的类别包括锚点(anchor)，所述锚点的线宽尺寸为第一线宽尺寸。

进一步的改进是，步骤二中，所述数据点的图形线宽尺寸和所述第一线宽尺寸的差值越小，所述第一系数越大。

进一步的改进是，计算所述第一系数的公式为：