[发明专利]一种核壳结构Cs0.32WO3/BiVO4异质结及其制备方法和应用在审
申请号: | 202210563698.2 | 申请日: | 2022-05-23 |
公开(公告)号: | CN115138354A | 公开(公告)日: | 2022-10-04 |
发明(设计)人: | 谈国强;杨迁;毕钰;冯帅军;王敏;张碧鑫;任慧君;夏傲 | 申请(专利权)人: | 陕西科技大学 |
主分类号: | B01J23/31 | 分类号: | B01J23/31;B01J37/34;B01J37/10;C02F1/30;C02F101/30 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 马贵香 |
地址: | 710021*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 结构 cs0 32 wo3 bivo4 异质结 及其 制备 方法 应用 | ||
本发明提供一种核壳结构Cs0.32WO3/BiVO4异质结及其制备方法和应用,其中的BiVO4结构为单斜相,形貌为十面体状;Cs0.32WO3结构为六方相,形貌为纳米颗粒状,Cs0.32WO3纳米颗粒存在于光滑的十面体BiVO4的表面,形成核壳结构。核壳结构Cs0.32WO3/BiVO4异质结在紫外‑可见光‑近红外光全光谱下具有增强的光催化性能。
技术领域
本发明属于功能材料领域,涉及一种核壳结构Cs0.32WO3/BiVO4异质结 及其制备方法和应用。
背景技术
BiVO4是一种新型半导体材料,由于具有能隙窄、可见光催化活性高、 氧化还原能力强和无毒性等优点被广泛应用于光催化领域。然而BiVO4半 导体催化剂只能在紫外-可见光对太阳光利用,存在光量子利用率低等缺点。
六方型Cs0.32WO3具有较高的可见光透过率、小极化子跃迁引起的较好 的近红外吸收能力、局部表面等离子体共振效应等优点,在光催化的应用更 有吸引力。与许多其他单组分光催化剂相似,纯Cs0.32WO3的光催化活性不 能令人满意,主要是由光生电子-空穴对的复合率高引起的。
发明内容
本发明的目的在于提供一种核壳结构Cs0.32WO3/BiVO4异质结及其制备 方法和应用,制备得到的核壳结构Cs0.32WO3/BiVO4异质结在紫外-可见光- 近红外光全光谱下具有增强的光催化性能。
本发明是通过以下技术方案来实现:
一种核壳结构Cs0.32WO3/BiVO4异质结,其中的BiVO4结构为单斜相, 形貌为十面体状;Cs0.32WO3结构为六方相,形貌为纳米颗粒状,Cs0.32WO3纳米颗粒存在于光滑的十面体BiVO4的表面,形成核壳结构。
所述的核壳结构Cs0.32WO3/BiVO4异质结的制备方法,包括:
步骤1,将Cs0.32WO3粉体分散在水中,经紫外光照射后,得到 Cs0.32WO3溶液;将BiVO4粉体分散在NaIO3溶液中,经紫外光照射后,得 到BiVO4溶液;
步骤2,将Cs0.32WO3溶液和BiVO4溶液混合,在紫外光照射条件下反 应,所得产物洗涤、干燥,得到核壳结构Cs0.32WO3/BiVO4异质结。
优选的,步骤1中,所述紫外光照射的时间均为30~40min;步骤2中, 反应时间为180~210min。
优选的,步骤2中,Cs0.32WO3和BiVO4的摩尔比为0.18:1.5。
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