[发明专利]一种射频场强度测量方法、装置、电子设备及存储介质在审
申请号: | 202210563135.3 | 申请日: | 2022-05-18 |
公开(公告)号: | CN114814685A | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
发明(设计)人: | 史京生 | 申请(专利权)人: | 北京万东医疗科技股份有限公司 |
主分类号: | G01R33/44 | 分类号: | G01R33/44 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 张萌 |
地址: | 100016 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 射频 强度 测量方法 装置 电子设备 存储 介质 | ||
本申请提供了一种射频场强度测量方法、装置、电子设备及存储介质,方法包括:通过磁共振系统对人体的目标部位施加去除了相位编码梯度的第一单回波序列,得到第一回波信号;通过所述磁共振系统对所述目标部位施加去除了相位编码梯度的第二单回波序列,得到第二回波信号;对于每一目标非共振射频脉冲,根据以下第一公式,计算该目标非共振射频脉冲的积分数值;根据以下第二公式,计算得到所述中心区域的磁共振射频场强度。本申请能够通过仅施加两次单回波序列(即仅需两次相位循环)便可计算得到射频场强度,相比于现有技术的需要进行四次相位循环,大幅简化了流程,减少了所需时间(相当于时间减半),从而提升了计算出的射频场强度的准确度。
技术领域
本申请涉及磁共振领域,具体而言,涉及一种射频场强度测量方法、装置、电子设备及存储介质。
背景技术
超导磁共振系统的射频发射场强度的准确测量,对磁共振成像质量起着至关重要的作用,射频发射场强度的测量结果越准确,最终得到的磁共振图像的加权效果就越好。
目前,在现有技术中,想要得到射频发射场强度,需要对人体进行四次相位循环。在相位循环期间,人体难免会发生生理运动(例如呼吸等),而生理运动会影响射频发射场强度的测量结果的准确性,相位循环的时间越长,人体便会发生越多的生理运动,对射频发射场强度的测量结果准确度的影响也就越大,而现有技术中的四次相位循环所需的时间较长,也就导致了基于现有技术得到的射频发射场强度的测量结果不够精确。
发明内容
有鉴于此,本申请的目的在于提供一种射频场强度测量方法、装置、电子设备及存储介质,能够通过仅施加两次单回波序列(即仅需两次相位循环)便可计算得到射频场强度,相比于现有技术的需要进行四次相位循环,大幅简化了流程,减少了所需时间(相当于时间减半),从而提升了计算出的射频场强度的准确度。
第一方面,本申请实施例提供了一种射频场强度测量方法,所述方法包括:
通过磁共振系统对人体的目标部位施加去除了相位编码梯度的第一单回波序列,得到第一回波信号,其中,在施加所述去除了相位编码梯度的第一单回波序列的过程中,通过所述磁共振系统对所述目标部位施加至少一个用于引起所述第一回波信号相位变化的第一非共振射频脉冲,对于每一所述第一非共振射频脉冲,该第一非共振射频脉冲的平均频率越大,所述第一回波信号的相位越大,所述目标部位位于所述磁共振系统中的接收线圈中的中心区域;
通过所述磁共振系统对所述目标部位施加去除了相位编码梯度的第二单回波序列,得到第二回波信号,其中,在施加所述去除了相位编码梯度的第二单回波序列的过程中,通过所述磁共振系统对所述目标部位施加至少一个用于引起所述第二回波信号相位变化的第二非共振射频脉冲,对于每一所述第二非共振射频脉冲,该第二非共振射频脉冲的平均频率越大,所述第二回波信号的相位越大,所述第二回波信号的相位与所述第一回波信号的相位不同;
对于每一目标非共振射频脉冲,根据以下第一公式,计算该目标非共振射频脉冲的积分数值,其中,所述目标非共振射频脉冲包括所述第一非共振射频脉冲和所述第二非共振射频脉冲;
其中,A为所述积分数值,0为施加该目标非共振射频脉冲的起始时刻,T为该目标非共振射频脉冲的结束时刻,t为0到T之间的时刻,γ为磁共振的拉莫进动频率常数,wRF(t)为该目标非共振射频脉冲在t时刻的频率与所述磁共振系统的中心共振频率之差,B1,normalized(t)为该目标非共振射频脉冲在t时刻的频率与所述磁共振系统能够施加的非共振射频脉冲的频率上限之比值;
根据以下第二公式,计算得到所述中心区域的磁共振射频场强度;
其中,B1,peak为所述磁共振射频场强度,S为每一所述目标非共振射频脉冲的积分数值之和,为所述第一回波信号的相位与所述第二回波信号的相位之差。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京万东医疗科技股份有限公司,未经北京万东医疗科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210563135.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。