[发明专利]化学增幅型正型感光性树脂组合物、保护膜以及具有保护膜的元件在审

专利信息
申请号: 202210550802.4 申请日: 2022-05-20
公开(公告)号: CN115437214A 公开(公告)日: 2022-12-06
发明(设计)人: 施俊安;刘骐铭 申请(专利权)人: 奇美实业股份有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/039;G03F7/075;G02F1/1333
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 石明;臧建明
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 化学 增幅 型正型 感光性 树脂 组合 保护膜 以及 具有 元件
【说明书】:

本发明提供一种化学增幅型正型感光性树脂组合物、保护膜以及具有保护膜的元件。所述化学增幅型正型感光性树脂组合物的感度及显影密着性良好。化学增幅型正型感光性树脂组合物包括含酸解离性基的树脂(A)、光酸产生剂(B)、溶剂(C)、硅烷化合物(D)以及封闭型异氰酸酯化合物(E)。硅烷化合物(D)具有如式(D‑1)所示的结构。(R1O)nR3(3‑n)‑Si‑CmH2m‑S‑Si(R2)3式(D‑1)。

技术领域

本发明涉及一种化学增幅型正型感光性树脂组合物、保护膜以及具有保护膜的元件,尤其涉及一种化学增幅型正型感光性树脂,其具有感度及显影密着性良好的优点,以及其所制得的保护膜及包含该保护膜的元件。

背景技术

薄膜晶体管型液晶显示元件或有机电致发光元件(organic electro-luminescence device,有机EL元件)等显示元件,通常包含层间绝缘膜或平坦化膜等绝缘膜,而此种绝缘膜通常使用感放射线性组合物来形成。为符合图案化性能的需求,通常可使用包含萘醌二叠氮化物(naphthoquinone diazide)等酸产生剂的正型感光性树脂组合物(参照日本专利特开2001-354822号公报),但近年来仍有许多其他的感光性组合物被提出。

举例而言,例如日本专利特开2004-4669号公报,是关于一种正型化学增幅材料,其形成显示元件用的硬化膜,所述正型化学增幅材料较前述使用萘醌二叠氮化物等酸产生剂的正型感光性树脂组合物,具有更高的感度。所述正型化学增幅材料含有交联剂、酸产生剂及酸解离性树脂,其中酸解离性树脂具有可被酸作用而解离的保护基,虽然酸解离性树脂本身不溶或难溶于碱性水溶液中,但通过酸的作用,使保护基解离而可溶于碱性水溶液中。另外,例如日本专利特开2004-264623号公报、日本专利特开2011-215596号公报以及日本专利特开2008-304902号公报也提出了含有具有缩醛结构和/或缩酮结构以及环氧基的树脂及酸产生剂的正型感光性组合物。

此类感光性树脂组合物中,除需具有高光感度外,所述硬化膜亦必须于显影后与基板充分密合而不易剥离,才得以形成理想的图案。

然而,目前的感光性树脂组合物仍有显影密着性及感度不佳的问题,而仍无法为业界所接受。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种化学增幅型正型感光性树脂组合物,其能够改善上述显影密着性及感度不佳的问题。

本发明提供一种化学增幅型正型感光性树脂组合物,包括:含酸解离性基的树脂(A)、光酸产生剂(B)、溶剂(C)、硅烷化合物(D)以及封闭型异氰酸酯化合物(E)。

硅烷化合物(D)具有如下述式(D-1)所示的结构。

(R1O)nR3(3-n)-Si-CmH2m-S-Si(R2)3 式(D-1)

式(D-1)中,R1表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基。

R2各自独立地表示未经取代或经取代的碳数1至20的烷基、未经取代或经取代的碳数6至10的芳基、未经取代或经取代的碳数7至10的芳烷基、未经取代或经取代的碳数2至10的烯基或未经取代或经取代的碳数1至20的有机氧基。

R3表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基。

n为1至3的整数;且m为1至3的整数。

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