[发明专利]立体贴合成型装置及方法在审

专利信息
申请号: 202210532631.2 申请日: 2022-05-13
公开(公告)号: CN114801150A 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 刘江林;蔡正丰 申请(专利权)人: 业泓科技(成都)有限公司;业泓科技股份有限公司
主分类号: B29C63/02 分类号: B29C63/02;B29C63/00
代理公司: 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 代理人: 芶雅灵
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 立体 贴合 成型 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种立体贴合成型装置,其特征在于:包括:

薄膜夹持治具,所述薄膜夹持治具提供夹持光学薄膜;

产品治具,系设在对应所述薄膜夹持治具的位置,并提供曲面产品;及

仿形机构,系设在薄膜夹持治具位于相隔光学薄膜一段距离的初始位置,所述仿形机构在所述初始位置以及调整所述光学薄膜形状的预成型位置之间移动,所述仿形机构的压合表面对所述光学薄膜的上表面,且所述压合表面的形状与所述曲面产品的贴附表面形状相对应,且所述仿形机构设有复数个气流通道,各气流通道延伸到所述压合表面,提供导引正压气体到所述光学薄膜的上表面;

其中,所述产品治具与所述薄膜夹持治具系由原始位置被驱动而位移到所述薄膜夹持治具与所述产品治具之间的贴附位置,或者被驱动离开所述贴附位置回到所述原始位置。

2.如权利要求1所述的立体贴合成型装置,其特征在于:所述压合表面的形状与所述曲面产品的贴附表面形状相对应。

3.如权利要求1所述的立体贴合成型装置,其特征在于:所述压合表面的曲率小于所述贴附表面的曲率。

4.如权利要求1所述的立体贴合成型装置,其特征在于:各所述气流通道提供所述正压气体的顺序,系为依照所述光学薄膜的下表面与所述贴附表面接触的顺序。

5.如权利要求4所述的立体贴合成型装置,其特征在于:各所述气流通道提供正压气体的顺序,系以所述光学薄膜的下表面最早接触到所述贴附表面的位置为中心逐渐向外扩展。

6.如权利要求4所述的立体贴合成型装置,其特征在于:各所述气流通道提供正压气体的顺序,系如同倒等腰三角形形状,且所述等腰倒三角形的顶角为所述光学薄膜的下表面最早接触到所述贴附表面的位置。

7.如权利要求4所述的立体贴合成型装置,其特征在于:各所述气流通道提供正压气体的顺序,系如同拋物线的形状,其中所述拋物线的切线斜率为零的位置为所述光学薄膜的下表面最早接触到所述贴附表面的位置。

8.一种立体贴合成型方法,包括下列步骤:

由薄膜夹持治具夹持光学薄膜;

再产品治具放置曲面产品;

所述薄膜夹持治具上方所设之仿形机构从相隔所述光学薄膜一段距离的初始位置移动到预成型位置,使得所述光学薄膜被所述仿形机构调整成预成型光学薄膜;

所述薄膜夹持治具与所述产品治具从原始位置移动到贴附位置,同时所述仿形机构所设的复数个气流通道依照所述光学薄膜下表面接触所述曲面产品的贴附表面的顺序提供正压气体,将所述光学薄膜均匀贴覆至所述贴附表面;

所述仿形机构再移动到所述初始位置;

所述薄膜夹持治具与所述产品治具离开所述贴附位置,并移动到所述原始位置。

9.如权利要求8所述的立体贴合成型方法,其特征在于:所述压合表面的形状与所述贴附表面形状相对应。

10.如权利要求9所述的立体贴合成型方法,其特征在于:所述压合表面的曲率小于所述贴附表面的曲率。

11.如权利要求8所述的立体贴合成型方法,其特征在于:各所述气流通道提供所述正压气体的顺序,系为依照所述光学薄膜的上表面与所述贴附表面接触的顺序。

12.如权利要求11所述的立体贴合成型方法,其特征在于:各所述气流通道提供正压气体的顺序,系以所述光学薄膜的上表面最早接触到所述贴附表面的位置为中心逐渐向外扩展。

13.如权利要求11所述的立体贴合成型方法,其特征在于:各所述气流通道提供正压气体的顺序,系如同倒等腰三角形形状,且所述等腰倒三角形的顶角为所述光学薄膜的下表面最早接触到所述贴附表面的位置。

14.如权利要求11所述的立体贴合成型方法,其特征在于:各所述气流通道提供正压气体的顺序,系如同拋物线的形状,其中所述拋物线的切线斜率为零的位置为所述光学薄膜的下表面最早接触到所述贴附表面的位置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于业泓科技(成都)有限公司;业泓科技股份有限公司,未经业泓科技(成都)有限公司;业泓科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210532631.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top