[发明专利]一种高精度法兰盘型硅谐振压力传感器及其制造工艺

权利要求书

1.一种高精度法兰盘型硅谐振压力传感器，其特征在于，包括由下至上依次设置的玻璃衬底层（1）、硅衬底层（2）、二氧化硅埋层（3）、法兰盘型硅谐振层（4）以及盖板层（5）；

所述法兰盘型硅谐振层（4）包括法兰盘型谐振器（40）、分别与所述法兰盘型谐振器（40）连接的驱动梳齿对和检测梳齿对以及分别通过受力杆（43）与所述法兰盘型谐振器（40）连接的第一锚部（44）和第二锚部（45），所述第一锚部（44）和第二锚部（45）位于同一直线上，所述驱动梳齿对和所述检测梳齿对相邻设置，所述受力杆（43）位于驱动梳齿对和检测梳齿对之间，且所述驱动梳齿对、所述检测梳齿对、受力杆（43）、第一锚部（44）和第二锚部（45）绕所述法兰盘型谐振器（40）呈圆周分布；

所述玻璃衬底层（1）内开设有引气孔（10），所述引气孔（10）与设置在硅衬底层（2）的压力敏感膜片（20）相通，且所述第一锚部（44）和第二锚部（45）分别连接在压力敏感膜片（20）上。

2.根据权利要求1所述的高精度法兰盘型硅谐振压力传感器，其特征在于，所述驱动梳齿对包括第一驱动梳齿对（410）以及与所述第一驱动梳齿对（410）关于法兰盘型谐振器（40）呈斜向对称设置的第二驱动梳齿对（411），且所述法兰盘型谐振器（40）的中心位于所述第一驱动梳齿对（410）与第二驱动梳齿对（411）的连线上。

3.根据权利要求2所述的高精度法兰盘型硅谐振压力传感器，其特征在于，所述检测梳齿对包括位于第一驱动梳齿对（410）和第二驱动梳齿对（411）之间的第一检测梳齿对（420）以及与所述第一检测梳齿对（420）关于法兰盘型谐振器（40）呈斜向对称设置的第二检测梳齿对（421），所述法兰盘型谐振器（40）的中心位于所述第一检测梳齿对（420）与第二检测梳齿对（421）的连线上。

4.根据权利要求1所述的高精度法兰盘型硅谐振压力传感器，其特征在于，两对所述驱动梳齿对的端面、两对所述检测梳齿对的端面分别与所述法兰盘型谐振器（40）的外缘之间具有间隙，且间隙一致。

5.根据权利要求1所述的高精度法兰盘型硅谐振压力传感器，其特征在于，所述法兰盘型谐振器（40）上刻蚀有多个阻尼孔（46），且所述阻尼孔（46）呈圆周分布。

6.根据权利要求1所述的高精度法兰盘型硅谐振压力传感器，其特征在于，所述盖板层（5）开设有用于提供引线键合时的拉线路径的通孔（50）。

7.根据权利要求1所述的高精度法兰盘型硅谐振压力传感器，其特征在于，所述盖板层（5）内部设置有用于保证谐振器腔体真空度的吸气层（51）。