[发明专利]使用光致发光光谱的用于OLED制造的计量

权利要求书

1.一种设备，包括：

光源，所述光源被配置为产生激发光，所述激发光包含来自可见或近可见光谱的光；

光学组件，所述光学组件被配置为将所述激发光引导到形成在基板上的光致发光(PL)层上；

检测器，所述检测器被配置为：

接收PL发射，所述PL发射由所述PL层响应于与所述PL层相互作用的所述激发光而产生，以及

基于所述PL发射产生信号；以及

计算装置，所述计算装置耦接至所述检测器，且所述计算装置被配置为：

接收来自所述检测器的所述信号，

基于与所述PL发射相关联的瞬态PL强度信息确定所述PL层的掺杂剂的浓度，其中所述瞬态PL强度信息包括所述PL发射的PL强度随着时间的衰减，以及

基于在一波长范围内所述PL发射的总光子计数来确定所述掺杂剂的所述浓度。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述PL发射的PL强度随着时间的衰减速率与所述PL层的厚度无关。

3.如权利要求1所述的设备，其中所述PL发射包含具有在可见光谱中的波长的光。

4.如权利要求1所述的设备，其中所述光学组件包含：

物镜，所述物镜被配置为将所述激发光引导至所述PL层；以及

二向色镜，所述二向色镜被配置为将所述激发光引导至所述物镜并透射所述PL发射。

5.如权利要求1所述的设备，其中所述光学组件包含第一光纤，所述第一光纤被配置为将所述激发光的至少第一部分引导至所述PL层上的第一测量位置。

6.如权利要求5所述的设备，其中所述光学组件进一步包含第二光纤，所述第二光纤被配置为将所述激发光的第二部分引导至所述PL层上的第二测量位置。

7.如权利要求1所述的设备，其中所述检测器被配置为用于进行PL发射的单光子定时记录。

8.如权利要求6所述的设备，其中所述光学组件进一步包含分光器，所述分光器被配置为将所述激发光的所述第一部分引导至所述第一光纤，并将所述激发光的所述第二部分引导至所述第二光纤。

9.如权利要求1所述的设备，其中：

所述检测器包含检测器阵列，所述检测器阵列被配置为在不同时间产生多个PL强度值；并且

所述计算装置被配置为基于所述多个PL强度值构建PL强度曲线并将所述PL强度曲线与校准曲线比较。

10.如权利要求1所述的设备，其中所述检测器包含线性阵列，所述线性阵列被配置为测量来自所述基板的表面上的多个位置的所述PL发射，所述表面从所述基板的一侧延伸至所述基板的相对侧。

11.如权利要求1所述的设备，其中所述计算装置被配置为基于所述PL层的厚度确定所述掺杂剂的所述浓度。

12.一种确定光致发光(PL)层的特性的方法，所述光致发光(PL)层设置在基板上，所述方法包含：

产生激发光，所述激发光包含来自可见或近可见光谱的光；

接收PL发射，所述PL发射由所述PL层响应于与所述PL层相互作用的所述激发光而产生；

基于所述PL发射产生信号；以及

基于所述信号确定所述PL层的所述特性，其中所述PL层的所述特性包含所述PL层的掺杂剂的浓度并且基于与所述PL发射相关联的瞬态PL强度信息、所述PL发射的静态PL强度值和所述PL层的厚度。

13.如权利要求12所述的方法，其中所述瞬态PL强度信息与所述PL层的厚度无关。

14.如权利要求12所述的方法，其中所述瞬态PL强度信息包含所述PL发射的PL强度随着时间的衰减。