[发明专利]一种全生长要素最优的植物栽培方法及其装置与应用

权利要求书

1.一种全生长要素最优的植物栽培装置，包括栽培槽(1)，其特征在于，所述栽培槽(1)内径向倾斜设置有平板(2)，所述平板(2)下方设置有用于改变平板(2)倾斜度的平板支撑物(7)，所述平板(2)上覆盖有农膜，所述农膜上覆盖有轻质网(3)，所述栽培槽(1)顶部设置有遮盖物(5)，所述轻质网(3)上设置有带喷水孔的水管(6)。

2.根据权利要求1所述的全生长要素最优的植物栽培装置，其特征在于，所述轻质网(3)上还均匀分散有蓄水颗粒(4)。

3.根据权利要求2所述的全生长要素最优的植物栽培装置，其特征在于，所述蓄水颗粒(4)为有机质颗粒。

4.根据权利要求1所述的全生长要素最优的植物栽培装置，其特征在于，栽培槽(1)为U型。

5.根据权利要求1所述的全生长要素最优的植物栽培装置，其特征在于，平板(2)较低的一侧设置有营养液回收沟槽(11)。

6.根据权利要求1所述的全生长要素最优的植物栽培装置，其特征在于，栽培槽(1)的侧壁有斜着设置的透气孔(12)。

7.根据权利要求1所述的全生长要素最优的植物栽培装置，其特征在于，所述轻质网(3)为孔径不小于1cm的轻质网。

8.根据权利要求1所述的全生长要素最优的植物栽培装置，其特征在于，所述水管(6)均连接总供水管，所述总供水管还与营养液池相连接，所述营养液池中的营养液通过水泵泵入总供水管中；营养液回收沟槽(11)与大水沟连接，所述大水沟与所述营养液池连接。

9.一种利用权利要求1～8任一项所述全生长要素最优的植物栽培装置实现的栽培方法，其特征在于，

a)所述栽培方法让植物的根系直接在平面上充分展开地生长，展开生长过程中所有根系与空气保持良好接触，从而处于含氧率接近21％这一最适宜根系生长的供氧环境；

b)让根系在生长过程中，其重量直接由根系生长所在的平面物体支撑，从而无需像常规水培和雾陪那样需要定植篮等类型的物体来定植植物以及采收后需要清理定植篮；

c)用溅射的方法给植物根系供给营养液，使得营养液均匀足量地洒在植物根系上，因而植物根系在获得足够营养的同时，根系无需浸泡在水中而与空气保持良好接触；

d)在根系生长的平面设置适当的均分与保留水分的物质，并设置可调节平板倾斜度的装置，利用这些设置的共同作用，使得两次溅射供液之间的时间内，根系生长所在的平面上均匀适量地留存一些营养液供根系吸收，同时，平面上又可以无连片积水；

e)将根系生长安置在适当的栽培槽中，栽培槽具有培植、通气、保湿、供液和溅射等功能；

f)设置营养液的供应回收循环系统，在循环系统的营养液池中调节营养液的各种营养元素的比例、PH值以及温度，使得根系需要的营养液的质量、温度、PH值等都达到最佳值。

10.一种权利要求1～8任一项所述全生长要素最优的植物栽培装置在温室大棚种植中的应用。