[发明专利]照明光学系统、曝光装置及制造物品的方法

说明书

本公开涉及照明光学系统、曝光装置及制造物品的方法。本发明提供了一种用于照亮物体的照明光学系统，包括：第一透光构件和第二透光构件，以及被配置为控制第一透光构件和第二透光构件的驱动的控制单元，其中，在控制单元驱动第一透光构件使得光对第一透光构件的入射角增加的同时，控制单元驱动第二透光构件使得光对第二透光构件的入射角减小，从而改变从照明光学系统出射的光的强度。

技术领域

本发明涉及照明光学系统、曝光装置和制造物品的方法。

背景技术

作为在半导体器件等的制造过程中使用的光刻装置，已知一种曝光装置(所谓的扫描曝光装置)，其在相对于投影光学系统扫描原稿和基板的同时对基板进行曝光，从而将原稿的图案转印到基板上。这种曝光装置一般在基板的扫描曝光期间以恒定的速度移动基板。但是，为了提高吞吐率(生产率)，期望在扫描曝光期间加速和/或减速基板。日本专利公开No.2012-142463提出了一种扫描曝光装置，其在加速和/或减速基板的同时执行基板的扫描曝光，从而提高吞吐率。

如果如日本专利公开No.2012-142463中所述的那样在加速和/或减速基板的同时执行基板的扫描曝光，那么曝光时段可能根据基板的速度而改变。出于这个原因，为了使扫描曝光中的曝光量恒定(均匀)，需要根据基板的速度来改变基板的照度(即，照射基板的光的强度)。在日本专利公开No.2012-142463中，通过基于基板台的驱动轮廓(drivingprofile)控制光源来控制基板的照度。但是，期望通过更简单的方法和机构来控制基板的照度。

发明内容

本发明提供了例如一种有利于在扫描曝光期间根据基板的速度改变基板的照度的技术。

根据本发明的一个方面，提供了一种用于照亮物体的照明光学系统，包括：第一透光构件和第二透光构件，以及被配置为控制第一透光构件和第二透光构件的驱动的控制单元，其中，在控制单元驱动第一透光构件使得光对第一透光构件的入射角增加的同时，控制单元驱动第二透光构件使得光对第二透光构件的入射角减小，从而改变从照明光学系统出射的光的强度。

根据本发明的一个方面，提供了一种制造物品的方法，该方法包括：使用曝光装置对基板进行曝光；处理在曝光中被曝光的基板；以及从在处理中被处理的基板制造物品，其中曝光装置对基板的多个拍摄区域中的每个拍摄区域执行扫描曝光，并且曝光装置包括：照明光学系统，被配置为使用来自光源的光照亮原稿；投影光学系统，被配置为将原稿的图案的图像投影到基板；并且其中照明光学系统包括：第一透光构件和第二透光构件，被配置为控制第一透光构件和第二透光构件的驱动的控制单元，其中，在控制单元驱动第一透光构件使得光对第一透光构件的入射角增加的同时，控制单元驱动第二透光构件使得光对第二透光构件的入射角减小，从而改变从照明光学系统出射的光的强度。

本发明的其它特征将通过以下参考附图对示例性实施例的描述而变得清楚。

附图说明

图1是示出曝光装置的配置的示例的示意图；

图2是示出当执行扫描曝光时基板的加速度、速度和照度的视图；

图3是示出关于第一透光构件和第二透光构件中的每一个的光(p偏振光)的入射角与透射率之间的关系的曲线图；

图4A至图4C是示出在一个拍摄区域的扫描曝光中第一透光构件和第二透光构件的驱动的示例的视图；

图5是示出在一个拍摄区域的扫描曝光中控制入射角的示例的视图；

图6A和图6B是各自示出透射率改变机构中光的透射率的改变的曲线图；

图7是示出入射角与光轴A的移位量之间的关系的曲线图；

图8是示出根据第二实施例的透射率改变机构的配置的示例的视图；以及

图9是示出根据第二实施例的组合透射率的曲线图。

具体实施方式