[发明专利]照明光学系统、曝光装置及制造物品的方法

权利要求书

1.一种用于照亮物体的照明光学系统，包括：

第一透光构件和第二透光构件，以及

控制单元，被配置为控制第一透光构件和第二透光构件的驱动，

其中，在控制单元驱动第一透光构件使得光对第一透光构件的入射角增加的同时，控制单元驱动第二透光构件使得光对第二透光构件的入射角减小，从而改变从照明光学系统出射的光的强度。

2.根据权利要求1所述的照明光学系统，其中

第一透光构件布置在光路上，以可绕与照明光学系统的光轴相交的第一旋转轴旋转，以及

第二透光构件布置在光路上，以可绕与光轴相交的第二旋转轴旋转。

3.根据权利要求2所述的照明光学系统，其中第一旋转轴和第二旋转轴平行。

4.根据权利要求1所述的照明光学系统，其中第一透光构件和第二透光构件中的每一个由一个平面-平行板构造。

5.根据权利要求1所述的照明光学系统，其中第一透光构件和第二透光构件中的每一个由有间隙布置的多个平面-平行板构造。

6.根据权利要求1所述的照明光学系统，还包括：

光学元件，被配置为使照射物体的光的照度均匀，

其中第一透光构件和第二透光构件布置在光源和光学元件之间的光路上。

7.根据权利要求1所述的照明光学系统，其中作为p偏振光的线性偏振光进入第一透光构件和第二透光构件。

8.根据权利要求1所述的照明光学系统，其中第一透光构件和第二透光构件中的每一个的厚度被设置为使得通过驱动第一透光构件和第二透光构件生成的来自第一透光构件和第二透光构件的光束的变化量在±0.5mm内。

9.一种曝光装置，用于对基板的多个拍摄区域中的每个拍摄区域执行扫描曝光，包括：

根据权利要求1至8中的任一项所述的照明光学系统，被配置为使用来自光源的光照亮作为所述物体的原稿；

投影光学系统，被配置为将原稿的图案的图像投影到基板。

10.根据权利要求9所述的装置，其中

照明光学系统的控制单元根据基板在扫描曝光中的速度来改变从照明光学系统出射的光的强度，

在扫描曝光中，控制单元驱动第一透光构件和第二透光构件中的一个透光构件，使得光对该透光构件的入射角在第一角度范围内增加，并且驱动第一透光构件和第二透光构件光中的另一个透光构件，使得光对该另一个透光构件的入射角在第二角度范围内减小，从而改变从照明光学系统出射的光的强度，以及

第一角度范围和第二角度范围中的每一个包括布鲁斯特角。

11.根据权利要求10所述的装置，其中控制单元在扫描曝光期间不改变第一透光构件的驱动方向和第二透光构件的驱动方向。

12.根据权利要求10所述的装置，其中扫描曝光包括其中基板被加速的加速区段和其中基板被减速的减速区段。

13.根据权利要求12所述的装置，其中基板在扫描曝光中的速度由包括加速区段和减速区段的正弦波形状的速度分布的一部分定义。

14.一种制造物品的方法，所述方法包括：

使用曝光装置对基板进行曝光；

处理在曝光中被曝光的基板；以及

从在处理中被处理的基板制造物品，

其中曝光装置对基板的多个拍摄区域中的每个拍摄区域执行扫描曝光，并且曝光装置包括：

照明光学系统，被配置为使用来自光源的光照亮原稿；

投影光学系统，被配置为将原稿的图案的图像投影到基板；以及

其中照明光学系统包括：

第一透光构件和第二透光构件，

控制单元，被配置为控制第一透光构件和第二透光构件的驱动，

其中，在控制单元驱动第一透光构件使得光对第一透光构件的入射角增加的同时，控制单元驱动第二透光构件使得光对第二透光构件的入射角减小，从而改变从照明光学系统出射的光的强度。