[发明专利]聚多曲霉MNP-2及在合成二苯并氧杂䓬类化合物中的应用

权利要求书

1.一株曲霉(Aspergillus sp.)MNP-2，保藏于中国典型培养物保藏中心，保藏编号CCTCC NO:M 2022061，保藏日期2022年1月12日，保藏单位地址为中国武汉，武汉大学，邮编430072。

2.一种权利要求1所述曲霉MNP-2在生物发酵合成式(I)所示二苯并氧杂类化合物中的应用，

3.如权利要求2所述的应用，其特征在于，所述的应用为：(1)菌株发酵：将曲霉MNP-2接至大米培养基，搅拌均匀，在室温下避光静置发酵25-35天，获得发酵混合物；所述大米培养基是由大米和蒸馏水组成；

(2)化合物提取：将步骤(1)制备的发酵混合物加入有机溶剂a中，室温、30-50kHz超声提取15-20min，过滤，滤液减压浓缩至无液体流出，得到粗提物浸膏；将全部粗提物浸膏用有机溶剂b溶解后，采用硅胶柱进行分离纯化，分别以体积比1:0、100:1、50:1、20:1、10:1、4:1、0:1的有机溶剂c:甲醇为洗脱剂，洗脱速度均为50-60mL/min，洗脱量均为5-15个柱体积，收集体积比20:1的流出液；将收集的流出液浓缩至无液体流出，取浓缩物用甲醇a溶解后再进行硅胶柱分离纯化，分别以体积比50:1、40:1、20:1的有机溶剂d：甲醇为洗脱剂，洗脱速度均为30-40mL/min，以体积比10:1的二氯甲烷：甲醇为展开剂进行TLC检测，收集Rf值为0.6的流出液；将流出液加入甲醇b中，室温静置重结晶，过滤，取晶体，40-50℃干燥3-5h，获得所述式(I)所示二苯并[b,e]氧杂类化合物；所述有机溶剂a为甲醇、乙醇、丙酮或乙酸乙酯；所述有机溶剂b同有机溶剂a；所述有机溶剂c为二氯甲烷或氯仿，所述有机溶剂d同有机溶剂c。

4.如权利要求3所述的应用，其特征在于步骤(1)蒸馏水用量以大米质量计为1-2mL/g。

5.如权利要求3所述的应用，其特征在于步骤(1)所述曲霉MNP-2发酵前先活化，种子扩大培养，再将种子液以体积浓度0.05mL/g的接种量接种至大米培养基；所述活化和种子扩大培养按如下步骤进行：(1)活化培养：将曲霉MNP-2接入PDA斜面培养基，28℃培养箱培养3-4天，活化菌种；PDA斜面培养基终浓度组成为：葡萄糖20g/L，马铃薯200g/L，琼脂15-18g/L，溶剂为蒸馏水，pH自然；(2)种子培养：从步骤(1)活化菌落中挑取一接种环菌体接种至PDB种子培养基，在200rpm、28℃条件下摇床培养3天，获得种子液；PDB种子培养基终浓度组成为：马铃薯200g/L，葡萄糖20g/L，溶剂为蒸馏水，pH自然。

6.如权利要求3所述的应用，其特征在于步骤(2)所述有机溶剂a体积用量以发酵混合物质量计为1-5mL/g；所述有机溶剂b体积用量以发酵混合物质量计为0.01-1mL/g。