[发明专利]一种炉外精炼去除工业硅熔体中磷、硼杂质的方法有效
| 申请号: | 202210463712.1 | 申请日: | 2022-04-29 |
| 公开(公告)号: | CN114735707B | 公开(公告)日: | 2023-04-25 |
| 发明(设计)人: | 罗大伟;高子杰;邓佳宝;荣科 | 申请(专利权)人: | 成都理工大学 |
| 主分类号: | C01B33/037 | 分类号: | C01B33/037 |
| 代理公司: | 成都禾创知家知识产权代理有限公司 51284 | 代理人: | 裴娟 |
| 地址: | 610051 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 精炼 去除 工业 硅熔体中磷 杂质 方法 | ||
1.一种炉外精炼去除工业硅熔体中磷、硼杂质的方法,其特征在于,抬包中通入载气,将氯化锌气化后通过载气的方式加入硅熔体中,所述氯化锌气化后缓慢均匀的随载气加入硅熔体中,控制硅熔体的温度≥1700℃,通气后静置反应30min~60min,氯化锌分解产生的氯离子和锌离子与硅熔体中的杂质磷和硼反应生成的低熔点化合物挥发逸出;高熔点化合物待硅熔体冷却凝固后采用破碎酸洗的方法去除或切除硅锭底部的沉积层去除。
2.根据权利要求1所述的一种炉外精炼去除工业硅熔体中磷、硼杂质的方法,其特征在于,加入氯化锌的质量为工业硅质量的1%~5%。
3.根据权利要求1所述的一种炉外精炼去除工业硅熔体中磷、硼杂质的方法,其特征在于,所述载气为压缩氩气。
4.根据权利要求1或3所述的一种炉外精炼去除工业硅熔体中磷、硼杂质的方法,其特征在于,所述载气的通气压力为0.2MPa~0.3MPa,气体流量为800L/h~1200L/h,通气时间为20 min~60min。
5.根据权利要求1所述的一种炉外精炼去除工业硅熔体中磷、硼杂质的方法,其特征在于,控制硅熔体的温度为1700℃。
6.根据权利要求1所述的一种炉外精炼去除工业硅熔体中磷、硼杂质的方法,其特征在于,所述冷却是以1K/min~5K/min的速率将硅熔体降至常温。
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