[发明专利]一种AlNd合金的金相显示方法在审
申请号: | 202210436093.7 | 申请日: | 2022-04-22 |
公开(公告)号: | CN114878568A | 公开(公告)日: | 2022-08-09 |
发明(设计)人: | 余飞;邵郑伟;黄宇彬;童培云;朱刘 | 申请(专利权)人: | 先导薄膜材料(广东)有限公司 |
主分类号: | G01N21/84 | 分类号: | G01N21/84;G01N1/28;G01N1/32;G01N1/34;G01N1/44 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 柯梦云 |
地址: | 511517 广东省清*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 alnd 合金 金相 显示 方法 | ||
本发明涉及一种AlNd合金的金相显示方法,属于金相检测分析技术领域。该方法包括以下步骤:形成第一磨光面;通过抛光剂对所述第一磨光面进行机械抛光,形成第二抛光面;以不锈钢为阴极,第二抛光面为阳极置于氟硼酸水溶液中进行阳极覆膜,形成显示面;其中氟硼酸水溶液由5.5g硼酸、15ml浓度49%的氢氟酸、480ml纯水组成。本发明阳极覆膜过程是在氟硼酸水溶液进行,在AlNd合金的表面覆盖一层各异性的氧化薄膜,该氧化膜具有厚度差,该氧化膜在偏光照明下,不同位相的晶粒有明显的色差,因此可以获得清晰的AlNd金相组织。
技术领域
本发明涉及一种AlNd合金的金相显示方法,属于金相检测分析技术领域。
背景技术
AlNd合金应用于液晶显示屏中,其薄膜作为TFT电极导电层具有良好的电阻率与刻蚀性能以及较高的基板结合率。但是这种靶材要实现其功能需要特定的织构和较高的纯度和密度。目前EBSD分析可以获得AlNd织构信息及金相组织信息,然而获得无应变,无模糊层的AlNd金相试样是一个难点。
目前制备铝及其合金金相的制备方法一般有两种,一是采用机械抛光加化学腐蚀的方法,但是该方法制备过程容易出现应变层和模糊层,特别是因为Nd作为最活泼的稀土元素之一,活性高,造成试样难以进行化学腐蚀。二是通过电解抛光加阳极覆膜的方法,该方法制备试样虽然可以消除应变层和模糊层,但是制备方法繁琐,并且电解液一般采用的是磷酸和高氯酸等高度危险的液体,在电解过程容易因为温度变化,导致着火甚至爆炸风险,并且电解液回收也困难。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种AlNd合金的金相显示方法,该方法能够获得清晰的AlNd金相组织。
为实现上述目的,本发明采取的技术方案为:提供一种AlNd合金的金相显示方法,包括以下步骤:
(1)磨光:依次使用600目、1200目、2500目水性砂纸打磨AlNd合金的表面,形成第一磨光面;
(2)抛光:通过抛光剂对所述第一磨光面进行机械抛光,形成第二抛光面;
(3)阳极覆膜:以不锈钢为阴极,第二抛光面为阳极置于氟硼酸水溶液中进行阳极覆膜,形成显示面;其中氟硼酸水溶液由5.5g硼酸、15ml浓度49%的氢氟酸、480ml纯水组成;
(4)金相观察:使用金相显微镜对显示面进行观察。
本发明技术方案在打磨后,对所形成的第一磨光面进行机械抛光,然后对机械抛光所得的第二抛光面进行阳极覆膜,阳极覆膜过程是在氟硼酸水溶液进行。阳极覆膜是通过电解质溶液在一定电制度下,在试样表面形成各异膜的过程,区别于化学腐蚀,由金属和合金中的晶粒于晶粒之间、晶内与晶界以及各相之间物理化学性质不同,具有不同的自由能,受到化学试剂浸蚀时会发生电化学反应,最终导致界面或者相的腐蚀。采用机械抛光能够有效去除第一磨光面上的划痕,进而提高所形成第二抛光面的平整光亮度。所述第二抛光面平整光亮度的提高,有利于氟硼酸水溶液对第二抛光面内晶界处的腐蚀,进而提高金相显示的结果。氟硼酸水溶液在电解过程不会受到温度的影响产生危险,同时在氟硼酸水溶液中,在AlNd合金的表面形成具有厚度差的薄膜,具有明显的色差,有利于提高金相显示的结果。
可选地,在打磨之前需要对AlNd合金进行处理获得AlNd合金试样,所述AlNd合金试样可以通过例如手锯、锯床或切割机床等方式从AlNd合金材料中切取部分而获得。所述AlNd合金试样的尺寸大小以适宜于后续工艺为宜。需要说明的是,在获得所述AlNd合金试样的过程中,需注意AlNd合金试样的温度条件,必要时在获得所述AlNd合金试样的过程中用水进行冷却,防止温度过高而改变所述AlNd合金试样的金相组织。
在磨光阶段,粗磨砂纸选择用600#水性砂纸打磨,选择目数过小,试样磨损大,试样表面过于粗糙,应变层过大。选择用砂纸目数过大,对试样研磨效率降低。精磨砂纸选择2500#水性砂纸打磨,该目数砂纸对AlNd合金既有较好的研磨效果,又保证了试样表面较低的粗糙度值。
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