[发明专利]阵列基板及显示面板

说明书

本申请涉及显示技术领域，提供一种阵列基板及显示面板，设有非显示区，非显示区设有多条金属阵列走线和多条扇出走线，多条金属阵列走线和多条扇出走线两者彼此间隔设置，非显示区还设有多条虚拟走线，多条虚拟走线排布于多条金属阵列走线和多条扇出走线两者之间的区域。本申请通过在多条金属阵列走线和多条扇出走线之间排布多条虚拟走线的方法，从而降低金属阵列走线边缘和扇出走线边缘的走线阻抗，以解决现有技术中靠近金属阵列走线边缘和扇出走线边缘的走线较细，走线阻抗较大，从而出现由阻抗差异产生的显示不均匀的问题。

技术领域

本申请属于显示技术领域，涉及一种阵列基板及显示面板。

背景技术

在液晶显示面板中，有阵列基板和彩膜基板，在阵列基板上各层图形的形成，每一层阵列图形的制作工艺，都需要经过薄膜沉积、清洗、光刻胶涂布、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离和检查这8个工艺步骤。

在现有技术中，面板的绑定区连接有扇出走线和WOA走线，扇出走线连接绑定区的数据信号线，WOA走线连接绑定区的驱动信号线和公共布线。因为绑定区上连接引脚数的差异，所以扇出走线和WOA走线在引进显示面内有效信号的时候，两种走线中间会有很大的距离。扇出走线和WOA走线的区域在蚀刻之后，扇出走线和WOA走线的区域会留下密集的金属，两者之间的金属会被蚀刻掉。因为金属密度的差异，在进行刻蚀的时候，扇出走线和WOA走线的区域蚀刻液的浓度差异比较大，使得靠近扇出走线和WOA走线的区域边缘的走线会变细，会加大走线的阻抗，从而出现由阻抗差异产生的显示不均匀的问题。

发明内容

本申请实施例的目的之一在于提供一种阵列基板及显示面板，通过在多条金属阵列走线和多条扇出走线之间排布多条虚拟走线的方法，以解决现有技术中靠近金属阵列走线边缘和扇出走线边缘的走线较细，走线阻抗较大，从而出现由阻抗差异产生的显示不均匀的问题。

为实现上述目的，本申请第一方面的实施例提供一种阵列基板，设有非显示区，所述非显示区设有多条金属阵列走线和多条扇出走线，所述多条金属阵列走线和所述多条扇出走线两者彼此间隔设置，所述非显示区还设有多条虚拟走线，所述多条虚拟走线排布于所述多条金属阵列走线和所述多条扇出走线两者之间的区域。

可选地，所述多条虚拟走线并列排布。

可选地，所述多条虚拟走线的走线方向与金属阵列走线的一部分的走线方向或扇出走线的一部分的走线方向相同。

可选地，所述多条虚拟走线之间的间距与所述多条扇出走线之间的间距或所述多条金属阵列走线之间的间距相同。

可选地，所述多条虚拟走线之间的间距从所述多条金属阵列走线一侧至所述多条扇出一侧呈阶梯变化。

可选地，所述多条虚拟走线之间的间距从所述多条金属阵列走线一侧至所述多条扇出一侧呈线性变化。

可选地，所述多条虚拟走线网状排布。

可选地，所述多条虚拟走线分别与所述多条金属阵列走线和所述多条扇出走线彼此间隔设置。

可选地，所述多条虚拟走线之间的间距不大于5.2微米，且不小于3.7微米。

本申请第二方面的实施例提供一种显示面板，包括：

如权利要求1-9中任一项所述的阵列基板；

彩膜基板，与所述阵列基板相对设置；

液晶层，设于所述阵列基板与所述彩膜基板之间。

本申请提供的一种阵列基板及显示面板，通过在多条金属阵列走线和多条扇出走线之间排布多条虚拟走线的方法，从而降低金属阵列走线边缘和扇出走线边缘的走线阻抗，以解决现有技术中靠近金属阵列走线边缘和扇出走线边缘的走线较细，走线阻抗较大，从而出现由阻抗差异产生的显示不均匀的问题。

附图说明