[发明专利]一种视差屏障型光栅表面清洁装置

说明书

本发明及一种视差屏障型光栅表面清洁装置，包括安装框架，所述安装框架呈矩形框型结构，安装框架中部设置有视窗区域，视窗区域内安装有光栅屏幕，光栅屏幕表面为凹凸不平面，安装框架中部设置有U型槽，U型槽内安装有移动单元，移动单元前端面上安装有清洁单元，清洁单元往复用于对光栅屏幕表面进行清洁。本发明具有对凹凸不平的光栅进行准确清理的功能，以及能够对清理后的擦拭垫进行刮料清理的技术效果，防止杂质二次污染光栅屏幕表面。

技术领域

本申请涉及光栅表面清洁的技术领域，特别是涉及一种视差屏障型光栅表面清洁装置。

背景技术

一般立体显示技术大致上可分为需配戴特殊眼镜与不需配戴特殊眼镜这两大类，其中不需配戴特殊眼镜的立体显示技术又称裸眼式立体显示技术，而屏障式(BarrierType)立体显示技术即是属于裸眼式立体显示技术的一种。

屏障式立体显示技术是利用于空间多功式裸视3D立体显示是在同一个荧屏上，以分割显示区域(空间)同时显示左右两眼画面(多功)来达成3D立体显示效果的方式，因此被称为“空间多功”，柱状透镜式3D立体显示荧屏是屏障式立体显示技术的一种，是在荧屏表面设置垂直排列的圆柱状凸透镜薄膜，透过透镜折射来控制光线行进方向，让左右两眼接受不同影像产生视差呈现立体效果。

在现有的光栅表面清洁设备中，如公告号为CN113514966A的中国专利，其公开了一种等离子组合精密3D光栅表面清洁装置，具体的，通过净化空气输出单元吹出净化空气的气流，清洁视差屏障3D光栅表面的灰尘、等离子Plasma除尘单元发出星雨状的高能离子与介质内分子发生非弹性碰撞，将能量转化成基态分子(原子)的内能，发生激发、离解、电离等一系列过程使污染介质处于活化状态。污染介质在等离子体的作用下，产生活性自由基，活化后的污染物分子经过等离子体定向链化学反应后被脱除、后面的吸气除尘单元吸走除掉的尘埃垃圾，实现对视差屏障3D光栅表面的清洁。

上述现有技术中，是采用非接触的清洁方式，但是第一方面，上述现有技术中是通过高能离子与介质之间的碰撞使污染介质处于活化状态以实现除杂的目的，其在工作时需要经过激发、离解、电离等一系列过程，因此在对光栅进行清洁时，需要多种设备配合使用，导致设备体积大、不适用室外的3D光栅平面；第二方面，视差屏障型光栅表面通常是凹凸不平的，当对光栅表面进行擦拭清洁时，不能准确的对光栅表面内的缝隙进行清理，导致光栅表面容易残留较多的杂质，影响光栅的清洁效果。

发明内容

为了能够对光栅表面进行准确的清洁处理，本申请提供一种视差屏障型光栅表面清洁装置。

本申请提供的一种视差屏障型光栅表面清洁装置采用如下的技术方案：

一种视差屏障型光栅表面清洁装置，包括安装框架，所述安装框架呈矩形框型结构，安装框架中部设置有视窗区域，视窗区域内安装有光栅屏幕，光栅屏幕表面为凹凸不平面，安装框架中部设置有U型槽，U型槽内安装有移动单元，移动单元前端面上安装有清洁单元，清洁单元往复用于对光栅屏幕表面进行清洁。

所述移动单元包括升降架、滑槽架、移动模块以及调节模块，所述U型槽内部对称安装有滑槽架，滑槽架与安装框架之间安装有升降架，滑槽架截面呈U型结构，滑槽架内部安装有移动模块，安装框架前端面上设置有与移动模块配合的滑槽a1，位于U型槽上端的移动模块中部安装有调节模块。

所述清洁单元包括U型架、清洁辊、转动轴和清理架，所述的U型架安装在移动单元外侧，U型架中部安装有转动轴，转动轴上端通过齿轮与移动单元相啮合，清洁辊贯穿设置在转动轴上，U型架上对称安装有对清洁辊清洗的清理架，转动轴为空心结构，转动轴中部设置有透气孔，U型架下端安装有进液管。