[发明专利]一种位姿测量方法、系统、装置及测量设备

权利要求书

1.一种位姿测量方法，其特征在于，包括：

通过全站仪获取标定装置标定的第一点、第二点、第三点和第四点在目标坐标系下的目标坐标A、B、C和D，其中，所述标定装置安装于待测设备，所述标定装置包括体积小于预设值的底座、固定于所述底座的第一反射模块及固定于所述底座与所述底座形成三角形的第二反射模块和第三反射模块，所述第一点位于所述第一反射模块中心，所述第二点位于所述第二反射模块接收所述全站仪发射的激光并反射到的第一挡板上，所述第三点位于所述第三反射模块接收所述全站仪发射的激光并反射到的第二挡板上，所述第四点位于所述全站仪上；

通过所述目标坐标系下的所述目标坐标A、B、C和D构建所述待测设备预设的标志坐标系，并获取与所述目标坐标系之间的转换矩阵T1，所述预设的标志坐标系与所述待测设备预设的设备坐标系之间存在转换矩阵T2；

通过所述预设的设备坐标系与所述目标坐标系之间的转换矩阵T1*T2获取所述待测设备在所述目标坐标系中的位姿，所述位姿为所述预设的设备坐标系与所述目标坐标系之间位移和旋转变化。

2.如权利要求1所述的位姿测量方法，其特征在于，在与所述底座形成三角形的所述第二反射模块和所述第三反射模块之外设置透明外壳。

3.如权利要求1所述的位姿测量方法，其特征在于，通过全站仪获取标定装置标定的第一点、第二点、第三点和第四点在目标坐标系下的目标坐标A、B、C和D之前，还包括：

控制所述全站仪在所述目标坐标系下设站，所述全站仪在设站后获取的坐标为所述目标坐标系下的目标坐标。

4.如权利要求1所述的位姿测量方法，其特征在于，通过全站仪获取标定装置标定的第一点、第二点、第三点和第四点在目标坐标系下的目标坐标A、B、C和D，包括：

在所述全站仪分别发射激光至所述标定装置标定的所述第一点、所述第二点、所述第三点和所述第四点并分别接收反射光后，获取所述目标坐标系下的目标坐标A、B、C和D。

5.如权利要求1所述的位姿测量方法，其特征在于，在所述第一反射模块上设置刻度。

6.如权利要求1所述的位姿测量方法，其特征在于，所述第一挡板和所述第二挡板为所述待测设备周围能够进行反射的物体。