[发明专利]一种在Mo粉表面化学镀铜的新方法在审
申请号: | 202210410000.3 | 申请日: | 2022-04-19 |
公开(公告)号: | CN115011954A | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 冉旭;柴荣;邹豪豪;朱巍巍;赵宇;苑嗣俊 | 申请(专利权)人: | 长春工业大学 |
主分类号: | C23C18/40 | 分类号: | C23C18/40;B22F1/17 |
代理公司: | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 苏张林 |
地址: | 130000 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 mo 表面 化学 镀铜 新方法 | ||
本发明公开了一种在Mo粉表面化学镀铜的新方法,包括以下步骤:S1.向含有Mo粉、酒石酸钾钠的水溶液中加入银氨溶液,接着过滤以收集产物,得到表面吸附有银离子的Mo颗粒;S2.将步骤S1得到的Mo颗粒分散于化学镀铜溶液中,加热至35~45℃,在不断搅拌的情况下加入甲醛溶液以进行反应;S3.反应结束后,收集产物,干燥后得到表面化学镀铜的Mo粉。本发明还公开了由所述方法制备的镀铜Mo粉及其在封装材料中的应用。本发明提供的Mo粉表面化学镀铜的新方法,解决了现有技术中在Mo粉表面化学镀铜前需要进行敏化和活化处理,工艺复杂、成本高,易引入杂质粒子等问题。
技术领域
本发明涉及化学镀技术领域,具体涉及一种在Mo粉表面化学镀铜的新方法。
背景技术
Mo-Cu合金因其优异的导电导热性、耐电弧性、阻燃性,在高温下具备高机械强度、低热膨胀系数、良好的可焊性和高耐腐蚀性等特点。从而被广泛制备成电接触材料、电子封装及热沉材料,应用于微电子、航空航天技术和军事装备中。由于在平衡时没有热力学动力,在具有正生成热的不溶相MoCu体系中,很难实现直接合金化,传统的制备方法如添加活性元素钯、镍等以提高MoCu相的合金化程度会因引入杂质原子导致导电导热性能的严重下降,而利用高能球磨法制备的纳米混合粉体会导致元素分布不均匀,且也会引入杂质碎屑,影响纯度和组织均匀性。
利用化学镀铜的方法可以避免上述问题,但传统化学镀Cu法一般需要利用SnCl2敏化、PdCl2活化,制粉工艺复杂,且需要消耗大量PdCl2,造成Mo粉表面化学镀铜成本过高,且易引入杂质粒子。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种Mo粉表面化学镀铜的新方法,以解决现有技术中在Mo粉表面化学镀铜前需要进行敏化和活化处理,工艺复杂、成本高,易引入杂质粒子等问题。
为了解决上述技术问题,本发明提供了如下的技术方案:
本发明提供了一种在Mo粉表面化学镀铜的新方法,包括以下步骤:
S1.向含有Mo粉、酒石酸钾钠的水溶液中加入银氨溶液,接着过滤以收集产物,得到表面吸附有银离子的Mo颗粒;
S2.将步骤S1得到的Mo颗粒分散于化学镀铜溶液中,加热至35~45℃,在不断搅拌的情况下加入甲醛溶液以进行反应;
S3.反应结束后,收集产物,干燥后得到表面化学镀铜的Mo粉。
现有技术中,在进行化学镀铜的过程中,一般需要进行SnCl2敏化和PdCl2活化的步骤,促进化学镀的进行。而本发明中,通过向含有Mo粉、酒石酸钾钠的水溶液中加入银氨溶液,Mo粉的表面能够吸附Ag+,并被酒石酸钾钠还原形成银单质,一方面能够促进化学镀铜的进行,无需进行SnCl2敏化和PdCl2活化,另一方面Mo粉表面微量的Ag元素有利于提高其导电导热性。
本发明中,银氨溶液不仅起到了提供Ag+的作用,其还能够起到络合剂的作用,有助于稳定Ag+,避免Ag+加入后在溶液中直接被还原成银单质,而无法被吸附到Mo粉的表面。
进一步地,步骤S1中,所述Mo粉优选为纳米级或微米级粉体,形状为球形或者不规则形状。
进一步地,步骤S1中,所述水溶液中,Mo粉的浓度为7~15g/L,酒石酸钾钠的浓度为6~10g/L。
本发明中,银氨溶液的配制方法为:将AgNO3按照6.8g/L的比例溶入去离子水中,随后缓慢滴入氨水,溶液先变浑浊后澄清,即得到所述银氨溶液。
进一步地,步骤S1中,所述银氨溶液的加入量为20~100mL/L水溶液。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长春工业大学,未经长春工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210410000.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理